文献

J-GLOBAL ID：200902267136236049   整理番号：08A0942345

複数波長を有する選択領域成長量子ドットによる光学集積素子作製

著者 (10件)： 尾崎信彦 (筑波大) ,  高田賀章 (筑波大) ,  大河内俊介 (筑波大) ,  大河内俊介 (NEC) ,  池田直樹 (物質・材料研究機構) ,  渡辺慶規 (筑波大) ,  杉本喜正 (筑波大) ,  杉本喜正 (物質・材料研究機構) ,  浅川潔 (筑波大) ,  浅川潔 (物質・材料研究機構)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 69th  号： 1  ページ： 281  発行年： 2008年09月02日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *量子ドット ,  *MBE成長 ,  電子ビーム ,  光導波路 ,  高密度実装 ,  *光ルミネセンス ,  化合物半導体 ,  赤外発光スペクトル ,  *ヒ化インジウム ,  *光集積回路 ,  *フォトニック結晶
準シソーラス用語： ハードマスク ,  モノリシック集積回路 ,  反応性イオンビームエッチング ,  *領域選択成長 ,  歪緩和 ,  *フォトニック結晶導波路

分類 (3件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  半導体のルミネセンス  (BM08092S) ,  光集積回路,集積光学  (BD06050D)

タイトルに関連する用語 (6件)： 波長 ,  領域成長 ,  量子ドット ,  光学 ,  集積 ,  作製