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J-GLOBAL ID：201102218997450073   整理番号：11A0797826

スペクトル形状制御可能な広帯域光源を目指した多色量子ドット成長(II)~90度回転メタルマスクによる4色量子ドットのモノリシック成長~

著者 (7件)： 竹内晃一 (和歌山大 シス工) ,  尾崎信彦 (和歌山大 シス工) ,  大河内俊介 (NEC) ,  池田直樹 (物質・材料研究機構) ,  杉本喜正 (物質・材料研究機構) ,  浅川潔 (筑波大) ,  HOGG R. A. (シェフィールド大)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
巻： 58th  ページ： ROMBUNNO.24P-BQ-6  発行年： 2011年03月09日 
JST資料番号： Y0054B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *量子ドット ,  一体構造 ,  広帯域 ,  光源 ,  *光ルミネセンス ,  発光スペクトル ,  化合物半導体 ,  *ヒ化インジウム ,  *MBE成長 ,  基板 ,  ヒ化ガリウム ,  選択成長 ,  スペクトル線形 ,  形状制御 ,  サーボ制御
準シソーラス用語： 領域選択成長

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  半導体のルミネセンス  (BM08092S)

タイトルに関連する用語 (7件)： スペクトル ,  形状制御 ,  広帯域 ,  多色 ,  量子ドット ,  成長 ,  メタルマスク