特許
J-GLOBAL ID：201103085777764950
2次元フォトニック結晶光デバイスの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
中尾 直樹
, 中村 幸雄
, 草野 卓
, 稲垣 稔
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-295054
公開番号（公開出願番号）：特開2005-062664
特許番号：特許第4113478号
出願日： 2003年08月19日
公開日（公表日）： 2005年03月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 光透過性基板の表面に屈折率の低い空孔或いは屈折率の高い柱を2次元的にマトリクス状に周期配列形成した2次元フォトニック結晶光デバイスの製造方法において、
空孔或いは柱を光透過性基板の表面に反応性ガスクラスターイオンビームと非反応性ガスクラスターイオンビームとを交互に照射してエッチング形成することを特徴とする2次元フォトニック結晶光デバイスの製造方法。
IPC (2件)：
G02B 6/12 ( 200 6.01)
, G02B 6/13 ( 200 6.01)
G02B 6/12 Z
, G02B 6/12 N
, G02B 6/12 M
