特許
J-GLOBAL ID：201803015518114509
マッピング方法および測定装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
須田 篤
, 楠 修二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-032950
公開番号（公開出願番号）：特開2018-138873
出願日： 2017年02月24日
公開日（公表日）： 2018年09月06日
要約：
【課題】パラメータ空間上での物理量の分布に適した測定点座標を用いて効率的なマッピング測定を行なうマッピング方法および測定装置を提供する。【解決手段】ある物理量を1つ以上のパラメータからなるパラメータ空間上の各点座標の条件で測定し、その物理量のパラメータ空間上での分布を得るマッピング測定において、マッピング測定の途中に、コンピュータを利用して、それまでに測定した点の座標と物理量とを解析してその物理量の分布を近似する応答曲面を取得した後、その応答曲面の近似精度がより高まるように以降に測定する点の座標を決めて測定を行なう。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
ある物理量を1つ以上のパラメータからなるパラメータ空間上の各点座標の条件で測定し、前記物理量の前記パラメータ空間上での分布を得るマッピング測定において、マッピング測定の途中に、コンピュータを利用して、それまでに測定した点の座標と物理量とを解析して前記物理量の分布を近似する応答曲面を取得した後、前記応答曲面の近似精度がより高まるように以降に測定する点の座標を決めて、測定を行なうことを特徴とするマッピング方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (6件)：
2F069AA04
, 2F069DD19
, 2F069NN17
, 2F069NN21
, 2F069NN25
, 5B056BB55
