研究者
J-GLOBAL ID:200901072761544216
更新日: 2022年09月20日
田中 秀司
タナカ シュウジ | Tanaka Shuji
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所属機関・部署:
福岡工業大学 工学部 電子情報工学科
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職名:
教授
ホームページURL (1件):
http://www.fit.ac.jp/elec/lab/kita-tanalab/index.html
研究分野 (2件):
結晶工学
, 応用物性
研究キーワード (2件):
半導体工学
, Semiconductor Engineering
競争的資金等の研究課題 (2件):
シリコン中の深い不純物評価
Characterization of Deep Impurities in Semiconductors
MISC (28件):
S Tanaka, T Ikari, H Kitagawa. Distribution of substitutional nickel atoms in dislocation-free silicon studied by deep level transient spectroscopy and theoretical analyses based on the dissociative mechanism of diffusion. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS. 2002. 41. 11A. 6305-6309
Precipitation-Enhanced Diffution of Nickel in Dislocation-Freesilicon Studies by In-Diffusion and Annealing Processes. Physica B308-310. 2001. 308-310, PP427-430
In-Diffusion and Annealing Processes of Substitutional Nickel Atoms in Dislocation-Free Silicon(共著). Japanese Journal of Applied Physics. 2001. 40. part1. 5A,3063-3068
仙波 卓弥, 田中 秀司, 竹内 恵三. 極微粒ダイヤモンド砥粒を用いた多層電着工具の開発(共著). 日本機械学会. 2000. 66. 643. 1057-1063
Takuya Senba, Shuji Tanaka, Keizo Takeuchi. Development of Multilayered Electroplated Diamond Tool with Fine Grains. Nihon Kikai Gakkai Ronbunshu, C Hen/Transactions of the Japan Society of Mechanical Engineers, Part C. 2000. 66. 643. 1057-1063
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学歴 (4件):
- 2003 宮崎大学 工学研究科 物質エネルギー工学
- 2003 宮崎大学
- 1975 福岡工業大学 工学部 電子材料工学科
- 1975 福岡工業大学
学位 (1件):
博士(工学) (宮崎大学)
所属学会 (2件):
電子情報通信学会
, 応用物理学会
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