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研究者
J-GLOBAL ID：201801019877235719   更新日: 2025年04月03日

大島 孝仁

オオシマ タカヨシ | Oshima Takayoshi
所属機関・部署：
国立研究開発法人物質・材料研究機構

国立研究開発法人物質・材料研究機構 について


職名： 主任研究員
研究分野 (3件)： 電子デバイス、電子機器 ,  結晶工学 ,  薄膜、表面界面物性
研究キーワード (4件)： 結晶工学 ,  半導体工学 ,  酸化物エレクトロニクス ,  酸化ガリウム
論文 (69件)：
  • Takayoshi Oshima, Yuichi Oshima. Near-vertical plasma-free HCl gas etching on (011) β-Ga2O3. Japanese Journal of Applied Physics. 2025. 64. 1. 018003-018003
  • Takayoshi Oshima, Masataka Imura, Yuichi Oshima. Formation of GaN mesas with reverse-tapered edge structures on a lattice-matched AlInN layer for a positive beveled edge termination. Applied Physics Express. 2024. 17. 8. 086501
  • Takayoshi Oshima, Rie Togashi, Yuichi Oshima. Plasma-free anisotropic selective-area etching of β-Ga2O3 using forming gas under atmospheric pressure. Science and Technology of Advanced Materials. 2024. 25. 1. 2378683
  • Takayoshi Oshima, Yuichi Oshima. Using selective-area growth and selective-area etching on (-102) β-Ga2O3 substrates to fabricate plasma-damage-free vertical fins and trenches. Applied Physics Letters. 2024. 124. 4. 042110
  • Hitoshi Takane, Takayoshi Oshima, Takayuki Harada, Kentaro Kaneko, Katsuhisa Tanaka. Rutile-type GexSn1-xO2 alloy layers lattice-matched to TiO2 substrates for device applications. Applied Physics Express. 2024. 17. 1. 011008
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MISC (4件)：
特許 (22件)：
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講演・口頭発表等 (207件)：
  • 結晶異方性ガスエッチングによる(100) β-Ga2O3上のエアブリッジ作製
    (第72回応用物理学会春季学術講演会 2025)
  • (011)面β-Ga2O3上のHClガスエッチング特性
    (第72回応用物理学会春季学術講演会 2025)
  • ルチル構造二酸化ゲルマニウム(r-GeO2)のショットキーバリアダイオード特性
    (第72回応用物理学会春季学術講演会 2025)
  • (-102) β-Ga2O3基板上のホモ・ヘテロエピタキシとプラズマフリー微細加工
    (第53回結晶成長国内会議 2024)
  • Fabrication of reverse tapered GaN edge structures for positive beveled edge termination
    (International Workshop on Nitride Semiconductors 2024 2024)
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学歴 (3件)：
  • 2007 - 2010 京都大学 大学院工学研究科 電子工学専攻 博士課程
  • 2005 - 2007 京都大学 大学院工学研究科 電子工学専攻 修士課程
  • 2001 - 2005 京都大学 工学部 電気電子工学科 学士課程
学位 (1件)：
  • 博士(工学) (京都大学)
経歴 (8件)：
  • 2025/04 - 現在 国立研究開発法人物質・材料研究機構 電子・光機能材料研究センター 主幹研究員
  • 2023/04 - 2025/03 物質・材料研究機構 電子・光機能材料研究センター 主任研究員
  • 2021/11 - 2023/03 物質・材料研究機構 機能性材料研究拠点 主任研究員
  • 2019/04 - 2021/10 株式会社FLOSIFA 研究開発部 主任研究員
  • 2018/04 - 2019/03 佐賀大学 理工学部 電気電子工学科 准教授
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受賞 (9件)：
  • 2025/03 - IOP Publishing & The Japan Society of Applied Physics Outstanding Reviewer Awards 2024 for Japanese Journal of Applied Physics in 2024
  • 2024/09 - 応用物理学会 第24回 JSAP Photo&Illustration Contest 最優秀賞 防壁
  • 2018/03 - 電子・情報・システム部門 電子デバイス研究会 電子・情報・システム部門 技術委員会奨励賞 酸化ガリウム系ヘテロ接合界面におけるキャリア閉じ込めの観察
  • 2016/02 - 井上科学振興財団 井上リサーチアウォード 酸化ガリウム系半導体の開拓研究とヘテロ接合デバイスへの展開
  • 2014/09 - 東京工業大学大学院理工学研究科 東工大工系若手奨励賞 酸化ガリウム系ヘテロ接合の開発
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所属学会 (1件)：
応用物理学会
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