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J-GLOBAL ID：200902159705920843   整理番号：01A1028391

キンヒドロン/エタノール処理によるシリコン基板の表面不動態化効果

Surface Passivation Effect of Silicon Substrates due to Quinhydrone/Ethanol Treatment.

著者 (3件)： TAKATO H (National Inst. Advanced Industrial Sci. Technol., Ibaraki, JPN) ,  SAKATA I (National Inst. Advanced Industrial Sci. Technol., Ibaraki, JPN) ,  SHIMOKAWA R (National Inst. Advanced Industrial Sci. Technol., Ibaraki, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 40  号： 10A  ページ： L1003-L1004  発行年： 2001年10月01日 
JST資料番号： F0599B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： キンヒドロン/エタノール処理によるSi基板の新しい表面不動態...

シソーラス用語： *表面処理 ,...
準シソーラス用語： 再結合速度

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分類 (2件)： 固体デバイス材料  (NC03020K) ,  試料技術  (BA02070O)

物質索引 (2件)： キンヒドロン ,  エタノール

引用文献 (7件)：

• 1) A. W. Stephens, A. G. Aberle and M. A. Green: J. Appl. Phys. 76 (1994) 363.
• 2) T. Lauinger, J. Schmidt, A. G. Aberle and R. Hezel: Appl. Phys. Lett. 68 (1996) 1232.
• 3) E. Yablonovitch and T. Gmitter: Appl. Phys. Lett. 49 (1986) 587.
• 4) K. L. Luke and L. J. Cheng: J. Electrochem. Soc. 135 (1988) 957.
• 5) T. S. Horanyi, T. Pavelka and P. Tutto: Appl. Surf. Sci. 63 (1993) 306.

タイトルに関連する用語 (4件)： キンヒドロン ,  エタノール ,  シリコン基板 ,  表面不動態化