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J-GLOBAL ID:200902235225088429   整理番号:06A0741754

触媒を用いて4H-SiC(0001)の研磨材を使用しない斬新な平坦化処理

Novel Abrasive-Free Planarization of 4H-SiC (0001) Using Catalyst
著者 (8件):
資料名:
巻: 35  号:ページ: L11-L14  発行年: 2006年08月 
JST資料番号: D0277B  ISSN: 0361-5235  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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白金(Pt)の触媒特性を利用した,炭化けい素(SiC)ウエハ...
シソーラス用語:
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分類 (1件):
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固体デバイス製造技術一般 
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