文献

J-GLOBAL ID：200902240895636471   整理番号：07A0834210

Zr-Al合金膜の陽極酸化による高信頼性を持った薄膜の作製

Preparation of Thin-Film Capacitor with High Reliability by Anodization of Zr-Al Alloy Film

著者 (7件)： MIKUNI Naohiro (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN) ,  SHIBATA Tomoharu (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN) ,  SHINKAI Satoko (Kyusyu Inst. of Technol., Fukuoka, JPN) ,  SASAKI Katsutaka (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN) ,  YANAGISAWA Hideto (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN) ,  YAMANE Misao (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN) ,  ABE Yoshio (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 46  号： 8A  ページ： 5249-5253  発行年： 2007年08月15日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 46at.%Alを持つスパッタ蒸着したZr-Al合金膜を陽極...

シソーラス用語： *信頼性 ,...
準シソーラス用語： *陽極酸化 ,...

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分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  電気化学反応  (CB07050F)

引用文献 (18件)：

• G. D. Wilk, R. M. Wallance, and J. M. Anthony: J. Appl. Phys.89(2001)5243.
• R. M. Fleming, D. V. Lang, C. D. W. Jones, M. L. Steigerwald, D. M. Murphy, G. B. Alers, Y. H. Wong, R. B. van Dover, J. R. Kwo, and A. M. Sergent: J. Appl. Phys.88(2000)850.
• J. Y. Zhang and I. W. Boyd: Appl. Surf. Sci.186(2002)40.
• T. Onozuka, H. Sasaki, N. Mikuni, S. Shinkai, K. Sasaki, M. Yamane, and Y. Abe: Jpn. J. Appl. Phys.44(2005)6731.
• K. Sasaki, M. Yamane, Y. Abe, and A. Noya: IEICE Trans. Electron. J78-C-II (1995)113 [in Japanese].

タイトルに関連する用語 (6件)： Zr ,  Al合金 ,  陽極酸化 ,  高信頼性 ,  薄膜 ,  作製