特許
J-GLOBAL ID:200903000006891085
微細成形モールドの製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
吉田 大
, 岩上 渉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-224660
公開番号(公開出願番号):特開2008-044328
出願日: 2006年08月21日
公開日(公表日): 2008年02月28日
要約:
【課題】硬度が高く、凹凸を構成する要素面の平滑度が高い微細成形モールドを製造する。【解決手段】犠牲モールドの表面に凹凸領域を形成し、微細成形モールドの成形面を構成する皮膜を前記凹凸領域上に堆積させ、前記皮膜の上に前記皮膜より硬度が低く前記微細成形モールドの内部層を構成する基膜を前記皮膜より厚く堆積させ、前記犠牲モールドを除去することにより前記微細成形モールドの前記成形面を形成する、ことを含む微細成形モールドの製造方法。【選択図】図1
請求項(抜粋):
犠牲モールドの表面に凹凸領域を形成し、
微細成形モールドの成形面を構成する皮膜を前記凹凸領域上に堆積させ、
前記皮膜の上に前記皮膜より硬度が低く前記微細成形モールドの内部層を構成する基膜を前記皮膜より厚く堆積させ、
前記犠牲モールドを除去することにより前記微細成形モールドの前記成形面を形成する、
ことを含む微細成形モールドの製造方法。
IPC (3件):
B29C 33/38
, B29C 59/02
, H01L 21/027
FI (3件):
B29C33/38
, B29C59/02 B
, H01L21/30 502D
Fターム (26件):
4F202AG05
, 4F202AJ02
, 4F202AJ06
, 4F202AJ09
, 4F202AJ12
, 4F202CA19
, 4F202CB01
, 4F202CD02
, 4F202CD07
, 4F202CD23
, 4F202CD24
, 4F209AA44
, 4F209AF01
, 4F209AG03
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AJ02
, 4F209AJ08
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC01
, 4F209PC05
, 4F209PN06
, 4F209PN09
, 4F209PQ11
, 5F046AA28
引用特許:
出願人引用 (3件)
審査官引用 (8件)
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