特許
J-GLOBAL ID:200903000339036069
スパッタリングターゲット及び透明導電膜及び透明導電ガラス基板
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
伊藤 充
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-132621
公開番号(公開出願番号):特開2005-314734
出願日: 2004年04月28日
公開日(公表日): 2005年11月10日
要約:
【課題】 特定の金属を含有する透明導電材料を画素電極、透明電極に使用することにより、バリヤーメタル等を堆積するための工程が不要な簡略化されたTFT(薄膜トランジスタ)基板の製造方法を提供することである。【解決手段】 酸化インジウムを主成分とし、W、Mo、Nb、Ni、Pt、Pdからなる第1金属群M1から選ばれた1種又は2種以上の金属又はその金属の酸化物と、ランタノイド系金属からなる第2金属群M2から選ばれた1種又は2種以上の金属の酸化物と、を含むスパッタリングターゲットを利用して、透明導電膜を作製する。この透明導電膜を画素電極として利用することによって、ソース電極7等との接触抵抗を小さく抑えることができる。更に、バリヤーメタル等を用いる必要がなくなったため、バリヤーメタル等を堆積する工程をなくすことができ、TFT基板の製造工程が簡略化される。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
酸化インジウムを主成分とし、
W、Mo、Nb、Ni、Pt、Pdからなる第1金属群M1から選ばれた1種又は2種以上の金属又はその金属の酸化物と、
ランタノイド系金属からなる第2金属群M2から選ばれた1種又は2種以上の金属の酸化物と、
を含むスパッタリングターゲット。
IPC (9件):
C23C14/08
, C23C14/34
, G02F1/1343
, G02F1/1368
, H01B5/14
, H01L21/28
, H01L21/285
, H01L21/3205
, H01L29/786
FI (10件):
C23C14/08 D
, C23C14/34 A
, G02F1/1343
, G02F1/1368
, H01B5/14 A
, H01L21/28 301R
, H01L21/285 S
, H01L29/78 612C
, H01L21/88 M
, H01L29/78 616V
Fターム (83件):
2H092GA11
, 2H092HA04
, 2H092JA24
, 2H092KA05
, 2H092KB14
, 2H092MA05
, 2H092MA13
, 2H092MA18
, 2H092MA27
, 2H092PA01
, 4K029BA45
, 4K029BB02
, 4K029BC03
, 4K029BD00
, 4K029BD01
, 4K029CA05
, 4K029DC02
, 4K029DC05
, 4M104AA01
, 4M104AA08
, 4M104AA09
, 4M104BB02
, 4M104BB13
, 4M104BB36
, 4M104BB39
, 4M104DD40
, 4M104FF13
, 4M104GG20
, 4M104HH15
, 5F033GG04
, 5F033HH08
, 5F033HH38
, 5F033JJ01
, 5F033JJ38
, 5F033KK05
, 5F033KK08
, 5F033KK17
, 5F033LL02
, 5F033MM05
, 5F033PP15
, 5F033QQ08
, 5F033QQ09
, 5F033QQ11
, 5F033QQ19
, 5F033QQ37
, 5F033RR06
, 5F033SS11
, 5F033VV15
, 5F033WW04
, 5F033XX09
, 5F110AA16
, 5F110AA30
, 5F110BB01
, 5F110CC07
, 5F110DD02
, 5F110EE03
, 5F110EE37
, 5F110EE44
, 5F110FF03
, 5F110FF30
, 5F110GG02
, 5F110GG15
, 5F110GG45
, 5F110HK03
, 5F110HK04
, 5F110HK09
, 5F110HK22
, 5F110HK25
, 5F110HK32
, 5F110HK33
, 5F110HL07
, 5F110HM18
, 5F110HM19
, 5F110NN02
, 5F110NN12
, 5F110NN24
, 5F110NN35
, 5F110NN72
, 5F110QQ04
, 5F110QQ05
, 5G307FA01
, 5G307FB01
, 5G307FC03
引用特許:
出願人引用 (6件)
-
特開昭63-184726号公報
-
液晶表示装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-344678
出願人:現代電子産業株式会社
-
薄膜トランジスタおよびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-219511
出願人:シャープ株式会社
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示
前のページに戻る