特許
J-GLOBAL ID:200903000913458457
搬送装置及び真空処理装置並びに常圧搬送装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
金坂 憲幸
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-045848
公開番号(公開出願番号):特開2004-265947
出願日: 2003年02月24日
公開日(公表日): 2004年09月24日
要約:
【課題】搬送効率の向上を図る。【解決手段】下方に基部を有し、その先端が垂直面上を移動可能な2つの移動台駆動機構9A,9Bと、各移動台駆動機構9A,9Bの先端にそれぞれ他方の移動台駆動機構9B,9A側へ延出して設けられ水平状態で上下方向及び第1水平方向に移動可能で且つ上下方向において互いに位置交換が可能な2つの移動台18A,18Bと、各移動台18A,18B上に設けられ基板wの移載を行う伸縮可能な移載機構19A,19Bと、該移載機構19A,19Bを有する2つの移動台18A,18Bが共通空間を移動する際に互いに干渉しないように各移動台駆動機構9A,9Bの移動を制御する制御手段20とを備えている。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
下方に基部を有し、その先端が垂直面上を移動可能な2つの移動台駆動機構と、各移動台駆動機構の先端にそれぞれ他方の移動台駆動機構側へ延出して設けられ水平状態で上下方向及び第1水平方向に移動可能で且つ上下方向において互いに位置交換が可能な2つの移動台と、各移動台上に設けられ基板の移載を行う伸縮可能な移載機構と、該移載機構を有する2つの移動台が共通空間を移動する際に互いに干渉しないように各移動台駆動機構の移動を制御する制御手段とを備えたことを特徴とする搬送装置。
IPC (3件):
H01L21/68
, B65G49/00
, B65G49/07
FI (3件):
H01L21/68 A
, B65G49/00 A
, B65G49/07 C
Fターム (29件):
5F031CA02
, 5F031FA01
, 5F031FA07
, 5F031FA11
, 5F031FA12
, 5F031FA15
, 5F031GA02
, 5F031GA35
, 5F031GA43
, 5F031GA45
, 5F031GA47
, 5F031GA48
, 5F031GA49
, 5F031GA50
, 5F031JA01
, 5F031JA14
, 5F031JA22
, 5F031LA08
, 5F031LA16
, 5F031LA18
, 5F031MA02
, 5F031MA03
, 5F031MA04
, 5F031MA13
, 5F031NA07
, 5F031NA18
, 5F031PA02
, 5F031PA06
, 5F031PA11
引用特許:
審査官引用 (9件)
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-212275
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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基板処理装置、基板搬送装置、および基板処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-026703
出願人:国際電気株式会社
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特開昭63-029811
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金具組立装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-223500
出願人:日立電線株式会社
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半導体製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-276274
出願人:株式会社日立国際電気
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処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-134753
出願人:東京エレクトロン株式会社
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真空処理装置の運転方法及びウエハの処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-266245
出願人:株式会社日立製作所, 日立テクノエンジニアリング株式会社
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基板処理システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-296453
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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被処理物の搬送装置および処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-024095
出願人:株式会社東芝
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