特許

J-GLOBAL ID：200903085863765235

基板処理装置、基板搬送装置、および基板処理方法

発明者： 岡山 智彦 ,  石田 丈繁 ,  竹田 智彦 ,  市村 悟 ,  鈴木 千典 ,  吉野 晃生 ,  赤尾 徳信 ,  秋田 幸男 ,  金沢 元一 ,  中山 恭伸
出願人/特許権者： 国際電気株式会社
代理人 (1件)： 油井 透 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-026703
公開番号（公開出願番号）：特開2000-306978
出願日： 2000年02月03日
公開日（公表日）： 2000年11月02日
要約：

【要約】【課題】 成膜室内への処理前基板搬送動作と、基板予備室への処理済み基板搬送動作とを同時に行って、基板処理サイクルを短縮し、単位時間当たりの基板処理枚数を増加する。【解決手段】 真空搬送室T2を中心にして一軸上に成膜室R、基板予備室L/Hを配置する。基板予備室L/Hに2段構成の処理前基板収納スロットHと処理済み基板収納スロットLとを設ける。真空搬送室T2に2段構成の上段アーム201と下段アーム202とを伸縮自在に設け、両アーム201、202は同時に直進動作をする。下段アーム202が成膜室Rに処理済み基板U2を受取りに行く動作中に、上段アーム201が基板予備室L/Hに処理前基板U1を受取りに行く。上段アーム201は受取った処理前基板U1を処理室Rへ、また下段アーム202が受取った処理済み基板U2は処理済み基板収納スロットLへ搬送する。

請求項（抜粋）：

基板に所定の処理を施す基板処理室と、該基板処理室内に基板を載置する基板載置部と、前記基板処理室で所定の処理を施される処理前基板あるいは所定の処理が施された処理済み基板を収納する基板収納部と、該基板収納部から基板処理室内の基板載置部へ処理前基板を搬送し、基板処理室内の基板載置部から基板収納部へ処理済み基板を搬送する基板搬送装置とを備え、前記基板搬送装置に同時に動作する基板搬送部を2つ設けて、一方の基板搬送部で基板収納部から基板処理室内の基板載置部へ処理前基板を搬送し、他方の基板搬送部で基板処理室内の基板載置部から基板収納部へ処理済み基板を搬送するようにした基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/3065

FI (2件)：

H01L 21/68 A ,  H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (12件)

• 半導体処理装置、その基板交換機構及び基板交換方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-313420   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 成膜装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-227561   出願人：日新電機株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-066326   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板移載機
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-144633   出願人：国際電気株式会社
• 真空チャンバ用回転伝動機構
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-159191   出願人：株式会社エフオーアイ, 株式会社神戸製鋼所
• 基板処理装置の構成ユニット
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-184524   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• ウェーハ面取り機における搬送アーム水平駆動装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-127021   出願人：株式会社東京精密
• 処理装置及び処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-148571   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• ハンドラ装置のストッカ部
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-330714   出願人：株式会社アドバンテスト
• 試料搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-241529   出願人：オリンパス光学工業株式会社
• 基板搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-221147   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板搬入搬出装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-154102   出願人：大日本スクリーン製造株式会社