特許
J-GLOBAL ID：200903002019623384

感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法

発明者：
和田 健二

和田 健二 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (4件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-015965
公開番号（公開出願番号）：特開2006-201711
出願日： 2005年01月24日
公開日（公表日）： 2006年08月03日
要約：
【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であり、感度や解像度に優れ、パターンプロファイルに優れ、露光ラチチュードが大きく、疎密依存性が小さく、且つEUV光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物、それを用いたパターン形成方法及び当該感光性組成物に有用な化合物を提供する。【解決手段】酸によって切断される結合を有する有機酸を活性光線又は放射線の照射により発生する化合物、及び当該化合物を含有する感光性組成物、及び当該感光性組成物を用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸によって切断される結合を有する有機酸を活性光線又は放射線の照射により発生する化合物(A)を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (12件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CC17
引用特許：
出願人引用 (9件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM