特許
J-GLOBAL ID：200903002105390236
シャワープレート、並びにそれを用いたプラズマ処理装置、プラズマ処理方法及び電子装置の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
小堀 益
, 堤 隆人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-163526
公開番号（公開出願番号）：特開2007-335510
出願日： 2006年06月13日
公開日（公表日）： 2007年12月27日
要約：
【課題】カバープレートが不要なシャワープレートを提供すること。【解決手段】プラズマ処理装置の処理室102に配置され、処理室102にプラズマを発生させるためにプラズマ励起用ガスを放出するシャワープレート105において、シャワープレート105を一体物とし、このシャワープレート105に、プラズマ処理装置のガス導入ポート110からのプラズマ励起用ガスを導入する横孔111と、この横孔111に連通する縦孔112とを設けた。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
プラズマ処理装置の処理室に配置され、前記処理室にプラズマを発生させるためにプラズマ励起用ガスを放出するシャワープレートにおいて、
シャワープレートを一体物とし、このシャワープレートに、プラズマ処理装置のガス導入ポートからのプラズマ励起用ガスを導入する横孔と、この横孔に連通してプラズマ励起用ガスを放出するための縦孔とを設けたシャワープレート。
IPC (3件)：
H01L 21/306
, C23C 16/455
, H01L 21/205
H01L21/302 101G
, C23C16/455
, H01L21/205
4K030EA05
, 4K030FA01
, 5F004AA16
, 5F004BA06
, 5F004BA20
, 5F004BB28
, 5F004BB29
, 5F004BC01
, 5F004DA00
, 5F004DA04
, 5F004DA26
, 5F004DB01
, 5F004DB03
, 5F004DB08
, 5F045AA08
, 5F045AB02
, 5F045AC01
, 5F045EF05
, 5F045EF08
, 5F045EF11
, 5F045EH02
, 5F045EH03
, 5F045EH11
, 5F045EH12
出願人引用 (16件)
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審査官引用 (2件)
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