処理装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：亀谷美明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-312336
公開番号（公開出願番号）：特開2000-208589
出願日： 1999年11月02日
公開日（公表日）： 2000年07月28日
要約：

【要約】【課題】被処理体の搬送時間を短縮してスループットの向上を図ることが可能な処理装置を提供する。【解決手段】処理装置100の第1搬送室122と第2搬送室133は,一のウェハWのみを収容可能な容積に設定され,かつ冷却プレート136と加熱ランプ142を備えた第1および第2ロードロック室130,132で接続される。大気圧雰囲気の第1搬送室122の周囲にはカセット106を載置可能な第1〜第4ロードポート102,114,116,118と被処理体位置合わせ装置150が配置され,減圧雰囲気の第2搬送室133の周囲には第1〜第4真空処理室158,160,162,164が配置される。第1および第2搬送室122,133内には,各々に対応して,2枚のウェハWを保持可能であると共に,各ウェハWを個別独立に搬送可能な第1および第2搬送アーム124,156が配置される。

請求項（抜粋）：

大気側と大気圧雰囲気の第1搬送空間とを区画すると共に,開閉型のカセットを載置可能な複数のロードポートを略直線上に配して成るロードポートサイトと;前記各ロードポートに設けられ,前記カセットを開閉するドアオープナと;前記第1搬送空間に配され,少なくともふたつの被処理体を保持可能であると共に,各被処理体を個別独立に搬送可能な第1搬送アームと;前記第1搬送空間に隣接して設けられ,前記被処理体の位置合わせを行う被処理体位置合わせ装置と;各々が前記第1搬送空間と第1ゲートバルブにより隔離され,各々が気密に構成された第2搬送空間と第2ゲートバルブにより隔離されると共に,各々がひとつの被処理体を収容可能な,複数のロードロック室と;前記第2搬送空間に配され,少なくともふたつの被処理体を保持可能であると共に,各被処理体を個別独立に,前記各ロードロック室と前記第2搬送空間の周囲に配される複数の真空処理室との間で受け渡し可能な,第2搬送アームと;前記第2搬送空間と前記各真空処理室とを隔離する第3ゲートバルブと;を備えたことを特徴とする,処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 , H01L 21/205 , H01L 21/3065

FI (3件)：

H01L 21/68 A , H01L 21/205 , H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (8件)

マルチチャンバウェハ処理システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-044896 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-228174 出願人：東京エレクトロン株式会社
半導体ウエハの位置合わせ機構およびその位置合わせ方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-092743 出願人：三菱電機株式会社

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