特許
J-GLOBAL ID：200903002514292114
露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-409881
公開番号（公開出願番号）：特開2005-175034
出願日： 2003年12月09日
公開日（公表日）： 2005年06月30日
要約：
【課題】 高NAの投影光学系を用いた場合(例えば、液浸型や1<NA)において、装置の大型化を招くことなく、高精度なアライメントを実現し、解像度に優れた露光を行うことができる露光装置を提供する。【解決手段】 レチクルに形成されたパターンを被処理体に投影光学系を利用して結像する露光装置であって、前記レチクルと前記被処理体との位置合わせの基準となる基準マークと、前記投影光学系の少なくとも一部と前記被処理体との間及び前記投影光学系の少なくとも一部と前記基準マークとの間を満たす1よりも大きい屈折率を有する第1の液体と、前記投影光学系及び前記液体を利用して前記被処理体の位置合わせを行うアライメント機構とを有することを特徴とする露光装置を提供する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
レチクルに形成されたパターンを被処理体に投影光学系を利用して結像する露光装置であって、
前記レチクルと前記被処理体との位置合わせの基準となる基準マークと、
前記投影光学系の少なくとも一部と前記被処理体との間及び前記投影光学系の少なくとも一部と前記基準マークとの間を満たす1よりも大きい屈折率を有する第1の液体と、
前記投影光学系及び前記液体を利用して前記被処理体の位置合わせを行うアライメント機構とを有することを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 525R
, G03F7/20 521
5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046DA13
, 5F046DB01
, 5F046EA03
, 5F046EA09
, 5F046EB03
, 5F046ED03
, 5F046FA10
, 5F046FA14
, 5F046FA16
, 5F046FB12
, 5F046FB20
出願人引用 (1件)
-
液浸型露光装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平9-121757
出願人：株式会社ニコン
審査官引用 (13件)
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