特許
J-GLOBAL ID:200903002772431633
電子配列の製作方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
伊東 忠彦
, 大貫 進介
, 伊東 忠重
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-506646
公開番号(公開出願番号):特表2006-520101
出願日: 2004年02月26日
公開日(公表日): 2006年08月31日
要約:
本発明の装置は、有機半導体材料の薄膜トランジスタを有する。この半導体材料は、第1の保護層、およびその後のフォトレジストの設置によって、パターン化される。本発明のトランジスタ(A)は、従来技術のトランジスタ(B、C)に比べて、極めてリーク電流が小さく、閾値電圧の低いことが結果として示されている。
請求項(抜粋):
有機半導体材料を有する活性層を備える薄膜トランジスタを有する電子配列を製作する方法であって、
当該方法は、
前記有機半導体材料または該有機半導体材料の前駆体材料を有する前記活性層を、基板上に設置するステップと、
前記保護層を前記活性層上に設置するステップと、
フォトレジストを設置し、露光し、定着させるステップと、
前記保護層および前記活性層を、前記フォトレジストのパターンと合致するようにパターン化するステップと、
を有する方法。
IPC (4件):
H01L 29/786
, H01L 51/05
, H01L 51/40
, H01L 51/30
FI (5件):
H01L29/78 618B
, H01L29/78 619A
, H01L29/28 100A
, H01L29/28 310K
, H01L29/28 280
Fターム (16件):
5F110AA06
, 5F110AA08
, 5F110BB01
, 5F110CC03
, 5F110EE02
, 5F110FF01
, 5F110GG05
, 5F110GG25
, 5F110GG42
, 5F110HK02
, 5F110HK32
, 5F110NN03
, 5F110NN04
, 5F110NN27
, 5F110NN36
, 5F110QQ01
引用特許:
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