露光装置及び表示デバイスの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤本芳洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-009003
公開番号（公開出願番号）：特開2006-195353
出願日： 2005年01月17日
公開日（公表日）： 2006年07月27日
要約：

【課題】スループット低下を招くことなく感光基板のフォーカス位置を正確に検出することができる露光装置を提供する。【解決手段】マスクMと感光性基板Pとを走査方向に同期移動させて、投影光学系PL1〜PL11を介してマスクのパターンを感光性基板上に露光する露光装置EXにおいて、投影光学系の光軸方向における該投影光学系に対する感光性基板の位置を検出する複数の位置検出手段50,52と、複数の位置検出手段により検出された感光性基板の検出結果に基づいて面傾斜を算出する面傾斜算出手段CONTと、面傾斜算出手段により算出された面傾斜と投影光学系を介して感光性基板に投影されるマスクのパターンの像面との相対位置を補正する相対位置補正手段PSTとを備え、複数の位置検出手段は、感光性基板を露光する露光開始前に、基板の平面内の複数の異なる位置においてそれそれ計測を行い、相対位置補正手段は、復数の計測結果に基づいて相対位置を補正する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

マスクと外径が500mmよりも大きい感光性基板とを走査方向に同期移動させて、投影光学系を介して前記マスクのパターンを前記感光性基板上に露光する露光装置において、前記投影光学系の光軸方向における該投影光学系に対する前記感光性基板の位置を検出する複数の位置検出手段と、前記複数の位置検出手段により検出された前記感光性基板の検出結果に基づいて面傾斜を算出する面傾斜算出手段と、前記面傾斜算出手段により算出された面傾斜と前記投影光学系を介して前記感光性基板に投影される前記マスクのパターンの像面との相対位置を補正する相対位置補正手段とを備え、前記複数の位置検出手段は、前記感光性基板を露光する露光開始前に、前記基板の平面内の複数の異なる位置においてそれぞれ計測を行い、前記相対位置補正手段は、前記復数の計測結果に基づいて前記相対位置を補正することを特徴とする露光装置。

IPC (4件)：

G03F 7/20 , G03F 9/00 , G03F 9/02 , H01L 21/027

FI (6件)：

G03F7/20 501 , G03F9/00 Z , G03F9/02 Z , H01L21/30 518 , H01L21/30 526A , H01L21/30 525W

Fターム (23件)：

2H097AA05 , 2H097AB09 , 2H097BB01 , 2H097BB04 , 2H097CA06 , 2H097CA12 , 2H097GB00 , 2H097KA05 , 2H097KA20 , 2H097KA29 , 2H097KA38 , 2H097LA12 , 5F046AA11 , 5F046BA05 , 5F046DA05 , 5F046DA14 , 5F046DB05 , 5F046DC10 , 5F046EB01 , 5F046EB02 , 5F046ED01 , 5F046FA10 , 5F046FC04

引用特許：

出願人引用 (1件)

露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-340790 出願人：株式会社ニコン

審査官引用 (9件)

露光装置及び露光方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-072853 出願人：株式会社ニコン
露光装置およびデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-100774 出願人：キヤノン株式会社
リソグラフィーアライナー、製造装置、または検査装置用の焦点及びチルト調節システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-274812 出願人：株式会社ニコン

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