特許
J-GLOBAL ID：200903003566819338
反射防止膜の形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (2件)：
石島 茂男
, 阿部 英樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-290979
公開番号（公開出願番号）：特開2006-106239
出願日： 2004年10月04日
公開日（公表日）： 2006年04月20日
要約：
【課題】生産性が高く、かつ、高品質の光学膜を形成可能な成膜装置を提供する。 【解決手段】本発明の成膜装置1には、AlとCrとを含有するフェロシリコン材料のターゲット(第一のターゲット)21a、21bが用いられており、従来の多結晶シリコンターゲットに比べて機械的強度が高いので、厚みの厚い第一のターゲット21a、21bに高密度電力を投入しても、割れやクラックが生じにくい。このように、第一のターゲット21a、21bの寿命は長いので、第一のターゲット21a、21bを煩雑に交換する必要はなく、また、ターゲットのクラックに起因するスプラッシュが起こり難く、透明膜にスプラッシュが混入することもないので、高品質の光学膜が得られる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
透明基板上に第一の透明膜を成膜した後、前記第一の透明膜上に第二の透明膜を成膜し、反射防止膜を形成する反射防止膜の形成方法であって、
前記第一、第二の透明膜のうち、いずれか一方の透明膜は他方の透明膜よりも屈折率が低い酸化ケイ素膜で構成され、
前記酸化ケイ素膜の成膜は、Crと、Alとを含有するフェロシリコン材料のターゲットを、酸素ガスを含有する反応ガスが含有された減圧雰囲気中でスパッタリングする反射防止膜の形成方法。
IPC (3件)：
G02B 1/11
, C23C 14/08
, C23C 14/10
G02B1/10 A
, C23C14/08 N
, C23C14/10
2K009AA03
, 2K009CC03
, 2K009DD03
, 2K009DD04
, 2K009DD09
, 4K029AA09
, 4K029AA11
, 4K029AA24
, 4K029BA41
, 4K029BA43
, 4K029BA46
, 4K029BB02
, 4K029BC08
, 4K029BD00
, 4K029CA06
, 4K029DC16
, 4K029EA09
出願人引用 (2件)
審査官引用 (11件)
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