特許
J-GLOBAL ID:200903003892432753

好気性グラニュールの形成方法、水処理方法及び水処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 吉田 研二 ,  石田 純
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-236683
公開番号(公開出願番号):特開2009-066505
出願日: 2007年09月12日
公開日(公表日): 2009年04月02日
要約:
【課題】連続通水式で好気性条件下において安定的にグラニュールを形成することが可能な好気性グラニュールの形成方法を提供する。【解決手段】有機物を含有する原水を反応槽に連続的に導入して微生物と接触させ、好気性条件下、硝化菌の共存下で、前記微生物を造粒させたグラニュールを形成する好気性グラニュールの形成方法である。【選択図】なし
請求項(抜粋):
有機物を含有する原水を反応槽に連続的に導入して微生物と接触させ、好気性条件下、硝化菌の共存下で、前記微生物を造粒させたグラニュールを形成することを特徴とする好気性グラニュールの形成方法。
IPC (4件):
C02F 3/10 ,  C02F 3/12 ,  C02F 3/00 ,  C02F 3/28
FI (5件):
C02F3/10 Z ,  C02F3/12 Z ,  C02F3/00 G ,  C02F3/12 H ,  C02F3/28 Z
Fターム (27件):
4D003AA12 ,  4D003AB02 ,  4D003BA02 ,  4D003CA03 ,  4D003CA07 ,  4D003EA01 ,  4D003EA14 ,  4D003EA21 ,  4D003FA02 ,  4D003FA04 ,  4D003FA05 ,  4D028BB02 ,  4D028BC12 ,  4D028BC18 ,  4D028BC24 ,  4D028BC28 ,  4D028BD06 ,  4D028BD11 ,  4D028BD16 ,  4D028CA01 ,  4D028CA04 ,  4D028CB02 ,  4D040AA01 ,  4D040AA22 ,  4D040BB01 ,  4D040BB51 ,  4D040BB91
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (22件)
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引用文献:
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