特許

J-GLOBAL ID：200903004204065021

反応方法および反応装置

発明者： 岡本 秀穂
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (3件)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-068705
公開番号（公開出願番号）：特開2004-290971
出願日： 2004年03月11日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：

【課題】大量に反応生成物を得ることができる新たな反応方法およびその反応装置を提供すること。【解決手段】薄膜状の第一反応試剤相と薄膜状の第二反応試剤相とを連続的に接触、反応させる薄膜状反応流路を有する反応装置であって、前記反応流路に第一反応試剤と第二反応試剤を導入するための導入路が設けられ、前記導入路には、前記導入路を流れ方向に二分するとともに、その流れ方向の延長線が前記反応流路を流れ方向に二分する整流板が設けられており、前記整流板で区切られた導入路の一方に第一反応試剤をその流動挙動が層流となるよう導入する第一導入手段と、前記導入路の他方に第二反応試剤をその流動挙動が層流となるよう導入する第二導入手段と、反応生成物を取出す取出口とを備えてなることを特徴とする反応装置。【選択図】図13

請求項（抜粋）：

薄膜状反応流路内に、第一反応試剤と第二反応試剤とを導入路を通じて連続的に導入し、薄膜状の第一反応試剤相および第二反応試剤相を前記反応流路内に形成させ、両反応試剤相を連続的に接触、反応させる方法であって、前記導入路には、前記導入路を流れ方向に二分するとともに、その流れ方向の延長線が前記反応流路を流れ方向に二分する整流板が設けられており、前記整流板で区切られた導入路の一方に第一反応試剤を、前記導入路の他方に第二反応試剤を、それぞれその流動挙動が層流となるよう導入することを特徴とする反応方法。

IPC (3件)：

B01J19/00 ,  C07C269/02 ,  C07C271/28

FI (3件)：

B01J19/00 321 ,  C07C269/02 ,  C07C271/28

Fターム (16件)：

4G075AA02 ,  4G075BA05 ,  4G075BD05 ,  4G075BD15 ,  4G075BD22 ,  4G075CA02 ,  4G075CA03 ,  4G075EE12 ,  4G075FA01 ,  4G075FA12 ,  4H006AA04 ,  4H006AC56 ,  4H006BD60 ,  4H006BD81 ,  4H006RA38 ,  4H006RB28

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ハロゲン化銀粒子の製造方法及び製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-337472   出願人：コニカ株式会社
• 流体試料を操作するための微小構造体
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-509721   出願人：シーフィード
• 混合方法、混合機構、該混合機構を備えたマイクロミキサーおよびマイクロチップ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-182217   出願人：ミノルタ株式会社