調整可能なアライメントジオメトリ

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：矢野敏雄 , 山崎利臣 , 久野琢也 , アインゼル・フェリックス=ラインハルト
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-318447
公開番号（公開出願番号）：特開2005-136428
出願日： 2004年11月01日
公開日（公表日）： 2005年05月26日
要約：

【課題】従来技法の欠点を解決すべく非対称なターゲットの測定やモデル化、ターゲットジオメトリ(幾何学構造)の特殊な設計および/または微妙な調整を可能にするアライメントシステムを提供すること。【解決手段】1つまたは複数のサブターゲットをアライメントターゲット上に形成することによってアライメントターゲットにジオメトリデザインを持たせ、アライメントシステムにより1つまたは複数のサブターゲットの全てに関してアライメントを実施し、プロセスのキャラクタライズとアライメントシステムのアライメントの計算のためのアルゴリズムを使用する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

ウエハ基板上のプロセスに対する所期のアライメントオフセットを提供するために構成されているアライメントターゲットを使用するための方法において、 1つまたは複数のサブターゲットをアライメントターゲット上に形成することによってアライメントターゲットにジオメトリデザインを持たせ、アライメントシステムにより1つまたは複数のサブターゲットの全てに関してアライメントを実施し、プロセスのキャラクタライズとアライメントシステムのアライメントの計算のためのアルゴリズムを使用するステップとを有していることを特徴とする方法。

IPC (3件)：

H01L21/027 , G03F9/00 , H01L21/68

FI (4件)：

H01L21/30 525W , G03F9/00 H , H01L21/68 F , H01L21/30 525X

Fターム (8件)：

5F031CA02 , 5F031HA53 , 5F031JA38 , 5F031KA06 , 5F031MA27 , 5F046EA11 , 5F046FC04 , 5F046FC06

引用特許：

出願人引用 (1件)

米国特許第5,966,215号明細書

審査官引用 (8件)

画像処理アライメント用ウェハアライメントマーク及び画像処理アライメント方法並びに半導体装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-110091 出願人：NECエレクトロニクス株式会社
特開平3-005753
ステージ精度測定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-017145 出願人：松下電器産業株式会社

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