特許
J-GLOBAL ID：200903006988767674

パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法

発明者：
佐藤 守正

佐藤 守正 について

, 
田代 朋子

田代 朋子 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 廣田 浩一 ,  流 良広
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-133256
公開番号（公開出願番号）：特開2006-163339
出願日： 2005年04月28日
公開日（公表日）： 2006年06月22日
要約：
【課題】 感光層の感度低下を抑制でき、かつ、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 【解決手段】 支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、重合禁止剤、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含み、かつ、該感光層を露光し現像する場合において、該感光層の露光する部分の厚みを該露光・現像後において変化させない前記光の最小エネルギーが、0.1〜10(mJ/cm2)であることを特徴とするパターン形成材料である。該パターン形成材料を備えたパターン形成装置である。該パターン形成材料を用いて露光するパターン形成方法である。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
支持体上に感光層を少なくとも有し、該感光層が、重合禁止剤、バインダー、重合性化合物及び光重合開始剤を含み、かつ、該感光層を露光し現像する場合において、該感光層の露光する部分の厚みを該露光・現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが、0.1〜10mJ/cm2であることを特徴とするパターン形成材料。
IPC (3件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/20 ,  G03F 7/26
FI (5件)：
G03F7/004 512 ,  G03F7/004 502 ,  G03F7/004 503Z ,  G03F7/20 501 ,  G03F7/26 501
Fターム (30件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB11 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC32 ,  2H025BC42 ,  2H025BC51 ,  2H025CA01 ,  2H025CA14 ,  2H025CA18 ,  2H025CA28 ,  2H025CA31 ,  2H025CA41 ,  2H025CA48 ,  2H025CB14 ,  2H025CB43 ,  2H025CB52 ,  2H025CC01 ,  2H096AA26 ,  2H096BA20 ,  2H096EA02 ,  2H096EA04 ,  2H096GA08 ,  2H096LA16 ,  2H097AA03 ,  2H097CA17 ,  2H097FA02 ,  2H097LA09
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (8件)
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