特許
J-GLOBAL ID：200903007412362330

無電解銅めっき浴

発明者：
石嵜 隆浩

石嵜 隆浩 について

, 
堀田 輝幸

堀田 輝幸 について


出願人/特許権者：
上村工業株式会社

上村工業株式会社 について


代理人 (4件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-004881
公開番号（公開出願番号）：特開2005-200666
出願日： 2004年01月13日
公開日（公表日）： 2005年07月28日
要約：
【解決手段】 銅の水溶性塩、錯化剤及び還元剤を含有してなる無電解銅めっき浴において、上記還元剤として、アスコルビン酸、アスコルビン酸塩及びそれらの変性体並びに誘導体から選ばれる1種又は2種以上を用い、かつ上記錯化剤として、カルボン酸、オキシカルボン酸、及びアミノカルボン酸(但し、ポリアミノカルボン酸は除く)から選ばれる1種又は2種以上を用いることを特徴とする無電解銅めっき浴を提供する。 【効果】 本発明の無電解銅めっき浴は、人体及び環境に悪影響を及ぼすホルムアルデヒドを使用する必要がなく、安価なアスコルビン酸を還元剤として使用することができるものであり、浴安定性、めっき析出性に優れており、被めっき物の劣化を起こり難いものである。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
銅の水溶性塩、錯化剤及び還元剤を含有してなる無電解銅めっき浴において、上記還元剤として、アスコルビン酸、アスコルビン酸塩及びそれらの変性体並びに誘導体から選ばれる1種又は2種以上を用い、かつ上記錯化剤として、カルボン酸、オキシカルボン酸、及びアミノカルボン酸(但し、ポリアミノカルボン酸は除く)から選ばれる1種又は2種以上を用いることを特徴とする無電解銅めっき浴。
IPC (1件)：
C23C18/40
FI (1件)：
C23C18/40
Fターム (4件)：
4K022AA18 ,  4K022BA08 ,  4K022DA01 ,  4K022DB07
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (16件)
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