有機EL表示素子の絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物、それから形成された絶縁膜、および有機EL表示素子

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-370381
公開番号（公開出願番号）：特開2002-169277
出願日： 2000年12月05日
公開日（公表日）： 2002年06月14日
要約：

【要約】【課題】透水性が充分に低くかつ良好な断面形状を有する有機EL素子の絶縁膜、およびそれを形成するための感放射線性樹脂組成物、ならびに上記絶縁膜を有する有機EL表示素子を提供すること。【解決手段】感放射線性樹脂組成物は(a)ノボラック樹脂、および(b)1,2-キノンジアジド化合物を含有する。絶縁膜は、前記感放射線性樹脂組成物より形成される。有機EL表示素子は、前記絶縁膜を有する。

請求項（抜粋）：

(a)ノボラック樹脂、および(b)1,2-キノンジアジド化合物を含有することを特徴とする、有機EL表示素子の絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物。

IPC (9件)：

G03F 7/004 511 , G03F 7/004 501 , C08K 5/16 , C08K 5/28 , C08K 5/3477 , C08L 61/06 , C08L 63/00 , G03F 7/022 , H01L 21/027

FI (9件)：

G03F 7/004 511 , G03F 7/004 501 , C08K 5/16 , C08K 5/28 , C08K 5/3477 , C08L 61/06 , C08L 63/00 A , G03F 7/022 , H01L 21/30 502 R

Fターム (36件)：

2H025AA11 , 2H025AA14 , 2H025AA20 , 2H025AB20 , 2H025AC01 , 2H025AC04 , 2H025AD03 , 2H025BE01 , 2H025CB29 , 2H025CC17 , 2H025CC20 , 4J002CC03W , 4J002CC04W , 4J002CC05W , 4J002CC06W , 4J002CD01X , 4J002CD02X , 4J002CD05X , 4J002CD06X , 4J002EN028 , 4J002EN038 , 4J002EN068 , 4J002EN078 , 4J002EP018 , 4J002EQ036 , 4J002EU048 , 4J002EU118 , 4J002EU138 , 4J002EU187 , 4J002EU208 , 4J002EU238 , 4J002FD20X , 4J002FD206 , 4J002FD207 , 4J002FD208 , 4J002GP03

引用特許：

出願人引用 (16件)

有機系エレクトロルミネセンスデバイスの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-292217 出願人：シーメンスアクチエンゲゼルシヤフト
ポジ型ホトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-263890 出願人：ヘキストジャパン株式会社
特開平2-084654

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審査官引用 (16件)

有機系エレクトロルミネセンスデバイスの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-292217 出願人：シーメンスアクチエンゲゼルシヤフト
ポジ型ホトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-263890 出願人：ヘキストジャパン株式会社
特開平2-084654

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