特許
J-GLOBAL ID:200903009035016450

磁場及び電場の一方または両方を用いたエネルギー線反射または遮蔽材料の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 津国 肇 ,  篠田 文雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-115090
公開番号(公開出願番号):特開2007-121997
出願日: 2006年04月19日
公開日(公表日): 2007年05月17日
要約:
【課題】磁場及び電場の一方または両方を用いてエネルギー線の反射または遮蔽方向を制御することにより、各種の煩雑な工程を要せずに、所望の方向にエネルギー線を反射または遮蔽させることのできる材料を製造する方法を提供し、また、この技術を用いた装置を提供することにある。【解決手段】磁気異方性及び/または誘電率異方性を有するエネルギー線反射部材に磁場及び電場の一方または両方を印加して、エネルギー線反射部材を印加した磁場及び/または電場に応じた方向に配向させ、固定することにより、エネルギー線反射部材の向きに応じた所望の方向にエネルギー線を反射する材料を製造するエネルギー線反射(遮蔽)材料の製造方法を提供する。【選択図】図2
請求項(抜粋):
磁気異方性及び/または誘電率異方性を有するエネルギー線反射部材に磁場及び電場の一方または両方を印加して、前記エネルギー線反射部材を印加した磁場及び/または電場に応じた方向に配向させ、固定することにより、前記エネルギー線反射部材の向きに応じた所望の方向にエネルギー線を反射する材料を製造することを特徴とするエネルギー線反射材料の製造方法。
IPC (3件):
G02B 5/30 ,  G02F 1/13 ,  G21K 1/06
FI (5件):
G02B5/30 ,  G02F1/13 505 ,  G21K1/06 B ,  G21K1/06 C ,  G21K1/06 D
Fターム (11件):
2H049BA02 ,  2H049BA42 ,  2H049BB42 ,  2H049BC05 ,  2H049BC06 ,  2H088EA33 ,  2H088EA36 ,  2H088EA40 ,  2H088EA45 ,  2H088GA06 ,  2H088MA20
引用特許:
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (3件)

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