特許
J-GLOBAL ID：200903068436878680
イオン注入装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-070317
公開番号（公開出願番号）：特開2004-281212
出願日： 2003年03月14日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：
【課題】本発明は、イオンビームの幅を限定するスリットを備えたイオン注入装置に関し、スリットを構成する部材の交換頻度を低減させて、稼動効率を向上させることを目的とする。【解決手段】一対のカーボンプレート31と、一対のカーボンプレート31の間に形成されたスリット40と、支持軸32と、アクチュエータ33と、移動制御手段34と、回転制御手段38とによりスリット部25を構成し、移動制御手段34または回転制御手段38によりアクチュエータ33を制御して、支持軸32を介して一対のカーボンプレート31を移動または回転させる。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
第1の部材と、第2の部材とにより形成されたイオンビームを通過させるスリットと、
前記スリットの幅方向に対して垂直方向に前記第1及び第2の部材を移動させる駆動手段とを有することを特徴とするイオン注入装置。
IPC (4件)：
H01J37/317
, C23C14/08
, H01J37/09
, H01L21/265
H01J37/317 Z
, C23C14/08 B
, H01J37/09 A
, H01L21/265 603B
4K029AA06
, 4K029AA24
, 4K029BD01
, 4K029DE00
, 4K029EA00
, 5C033BB02
, 5C034CC19
