特許
J-GLOBAL ID：200903009438277598

パターン形成方法、カラーフィルター付基板及び表示素子

発明者：
佐藤 守正

佐藤 守正 について


出願人/特許権者：
富士フイルムホールディングス株式会社

富士フイルムホールディングス株式会社 について


代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-195469
公開番号（公開出願番号）：特開2007-011231
出願日： 2005年07月04日
公開日（公表日）： 2007年01月18日
要約：
【課題】 ITO膜をその上に形成した場合に、面内での抵抗値変動を小さく維持したまま、且つ低抵抗なITO膜とすることができるパターンの形成方法、該パターン形成方法によって画素を形成したカラーフィルター付基板、及び該カラーフィルター付基板を備えた表示素子を提供する。【解決手段】 基板上に光重合系感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層を設ける樹脂層形成工程と、レーザーにより露光を行うパターン露光工程と、前記パターン露光後の感光性樹脂層を現像する現像工程と、前記現像後の感光性樹脂層を熱処理するポストベーク工程と、を少なくとも経てカラーフィルターのパターンを得るパターン形成方法、該形成方法によってカラーフィルターを形成したカラーフィルター付基板、及び該カラーフィルター付基板を備えた表示素子【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
基板上に光重合系感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層を設ける樹脂層形成工程(a)と、レーザーにより前記感光性樹脂層に露光を行うパターン露光工程(b)と、前記パターン露光後の感光性樹脂層を現像する現像工程(c)と、前記現像後の感光性樹脂層を熱処理するポストベーク工程(d)と、を少なくとも経てカラーフィルターのパターンを得ることを特徴とするパターン形成方法。
IPC (4件)：
G02B 5/20 ,  G02F 1/133 ,  G02F 1/134 ,  G03F 7/40
FI (4件)：
G02B5/20 101 ,  G02F1/1333 500 ,  G02F1/1343 ,  G03F7/40 501
Fターム (34件)：
2H048BA11 ,  2H048BA43 ,  2H048BA45 ,  2H048BA48 ,  2H048BB02 ,  2H048BB10 ,  2H048BB42 ,  2H090JA06 ,  2H090JB02 ,  2H090JC07 ,  2H090LA01 ,  2H090LA15 ,  2H092GA12 ,  2H092GA24 ,  2H092GA27 ,  2H092GA32 ,  2H092GA40 ,  2H092GA45 ,  2H092HA04 ,  2H092JB01 ,  2H092JB21 ,  2H092KA18 ,  2H092KB04 ,  2H092MA10 ,  2H092MA31 ,  2H092NA28 ,  2H096AA27 ,  2H096AA28 ,  2H096AA30 ,  2H096BA05 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096HA03 ,  2H096JA04
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • レーザ繰り返し率増倍器
    公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-566933   出願人：オルボテックリミテッド
  • 画像記録装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-011816   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
審査官引用 (8件)
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