特許
J-GLOBAL ID：200903011193490589

異方形状シリカゾルの製造方法

発明者：
西田 広泰

西田 広泰 について

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若宮 義憲

若宮 義憲 について

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松田 政幸

松田 政幸 について

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平井 俊晴

平井 俊晴 について


出願人/特許権者：
触媒化成工業株式会社

触媒化成工業株式会社 について


代理人 (1件)： 石田 政久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-341086
公開番号（公開出願番号）：特開2007-145633
出願日： 2005年11月25日
公開日（公表日）： 2007年06月14日
要約：
【課題】 研磨材として好適な異方形状シリカゾルおよびその製造方法を提供する。【解決手段】 平均粒子径が3〜20nmの範囲にあるシリカゾルを脱陽イオン処理してpH2〜5の範囲に調整し、次いで脱陰イオン処理した後、アルカリ性水溶液を添加してpH7〜9に調整した後、60〜250°Cで加熱することにより製造する。得られる異方形状シリカゾルは、平均粒子径が4〜25nmの範囲にあり、短径/長径比が0.05〜0.5の範囲にある。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
平均粒子径が3〜20nmの範囲にあるシリカゾルを脱陽イオン処理してpH2〜5の範囲に調整し、次いで脱陰イオン処理した後、アルカリ性水溶液を添加してpH7〜9に調整した後、60〜250°Cで加熱することを特徴とする異方形状シリカゾルの製造方法。
IPC (5件)：
C01B 33/148 ,  B24B 37/00 ,  H01L 21/304 ,  C01B 33/142 ,  C01B 33/141
FI (5件)：
C01B33/148 ,  B24B37/00 H ,  H01L21/304 622B ,  C01B33/142 ,  C01B33/141
Fターム (23件)：
3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CB01 ,  3C058DA02 ,  3C058DA12 ,  3C058DA17 ,  4G072AA28 ,  4G072CC01 ,  4G072EE01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH21 ,  4G072HH22 ,  4G072HH24 ,  4G072JJ11 ,  4G072JJ13 ,  4G072PP01 ,  4G072PP02 ,  4G072RR05 ,  4G072RR06 ,  4G072SS01 ,  4G072TT01 ,  4G072TT30 ,  4G072UU01
引用特許：
出願人引用 (14件)
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審査官引用 (1件)
  • 特開平1-317115

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