特許
J-GLOBAL ID：200903011725977201

ペリクル

発明者：
白崎 享

白崎 享 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (3件)： 荒井 鐘司 ,  河野 尚孝 ,  嶋崎 英一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-098616
公開番号（公開出願番号）：特開2008-256925
出願日： 2007年04月04日
公開日（公表日）： 2008年10月23日
要約：
【課題】 本発明は、上記の事情に鑑み、ペリクルをマスクに貼着しても、マスクの平坦度が損なわれないようなペリクルを提供することを課題とする。【解決手段】 本発明のペリクルは、そのペリクルフレームのマスクに張り付く側の平坦度が30μm以下であり、かつそのペリクルフレームのペリクル膜側の平坦度が15μm以下であることを特徴とする。【選択図】 無し
請求項（抜粋）：
半導体リソグラフィーに使用されるペリクルにおいて、そのペリクルフレームのマスクに張り付く側の平坦度が30μm以下であり、かつそのペリクルフレームのペリクル膜側の平坦度が15μm以下であることを特徴とするペリクル。
IPC (1件)：
G03F 1/14
FI (1件)：
G03F1/14 K
Fターム (1件)：
2H095BC36
引用特許：
出願人引用 (4件)
  • 特開昭58-219023号公報
  • 米国特許第4861402号明細書
  • 特公昭63-27707号公報
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審査官引用 (6件)
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