特許
J-GLOBAL ID：200903012192757146

表面処理装置及び方法

発明者：
関 伸介

関 伸介 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 西 和哉 ,  志賀 正武 ,  青山 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-068537
公開番号（公開出願番号）：特開2008-229413
出願日： 2007年03月16日
公開日（公表日）： 2008年10月02日
要約：
【課題】短時間で均一性の高い表面処理を行う。【解決手段】シランカップリング剤を気化する気化装置202と、被処理物Pが配置されるとともに気化装置202によって気化されたシランカップリング剤が導入される処理装置203と、気化装置202の内部の処理雰囲気と処理装置203の内部の処理雰囲気とを個別に制御可能な制御装置205とを備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
気化したシランカップリング剤が存在する雰囲気中に、無機配向膜を備える被処理物を晒すことによって前記被処理物の表面処理を行う表面処理装置であって、 前記シランカップリング剤を気化する気化装置と、 前記被処理物が配置されるとともに前記気化装置によって気化された前記シランカップリング剤が導入される処理装置と、 前記気化装置の内部の処理雰囲気と前記処理装置の内部の処理雰囲気とを個別に制御可能な制御装置と を備えることを特徴とする表面処理装置。
IPC (4件)：
B01J 19/00 ,  G02F 1/133 ,  B01J 19/12 ,  B01J 19/08
FI (4件)：
B01J19/00 K ,  G02F1/1337 ,  B01J19/12 G ,  B01J19/08 H
Fターム (18件)：
2H090HB12Y ,  2H090HC01 ,  2H090HD14 ,  2H090JC07 ,  2H090MA01 ,  2H090MB14 ,  4G075AA24 ,  4G075BC01 ,  4G075BD14 ,  4G075CA02 ,  4G075CA05 ,  4G075CA33 ,  4G075CA47 ,  4G075CA63 ,  4G075DA02 ,  4G075DA03 ,  4G075DA13 ,  4G075EB01
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (6件)
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