特許
J-GLOBAL ID:200903013081098255
研磨装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
吉田 稔
, 田中 達也
, 仙波 司
, 古澤 寛
, 鈴木 泰光
, 臼井 尚
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-240146
公開番号(公開出願番号):特開2007-054897
出願日: 2005年08月22日
公開日(公表日): 2007年03月08日
要約:
【課題】 ウエハなどを表面精度よく研磨することが可能な研磨装置を提供すること。【解決手段】 ワークとしてのウエハWを挟持可能に対向配置された上定盤1および下定盤2と、上定盤1を吊り下げ可能であり、かつ上定盤1に回転駆動力を伝達する回転支持軸3と、を備えており、上定盤1がウエハWに対して相対回転させられることにより、ウエハWを研磨する、両面研磨装置Aであって、上定盤1は、回転支持軸3の軸方向において回転支持軸3に対して相対動可能であり、かつ回転支持軸3に対して傾動可能である。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
ワークを挟持可能に対向配置された上定盤および下定盤と、
上記上定盤を吊り下げ可能であり、かつ上記上定盤に回転駆動力を伝達する回転支持軸と、を備えており、
上記上定盤が上記ワークに対して相対回転させられることにより、上記ワークの少なくとも上面を研磨する、研磨装置であって、
上記上定盤は、上記回転支持軸の軸方向において上記回転支持軸に対して相対動可能であり、かつ上記回転支持軸に対して傾動可能であることを特徴とする、研磨装置。
IPC (3件):
B24B 37/04
, B24B 37/00
, H01L 21/304
FI (3件):
B24B37/04 F
, B24B37/00 B
, H01L21/304 621B
Fターム (7件):
3C058AA07
, 3C058AA14
, 3C058AA18
, 3C058AB08
, 3C058CB01
, 3C058CB03
, 3C058DA18
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (7件)
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