特許
J-GLOBAL ID：200903013311901540
露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-362668
公開番号（公開出願番号）：特開2006-173305
出願日： 2004年12月15日
公開日（公表日）： 2006年06月29日
要約：
【課題】 所望のパターンが形成された物体面を照明する光の偏光状態を切り替えた場合にも、結像性能を劣化させず精度よく微細パターンを転写することができる露光装置及び方法を提供する。【解決手段】 レチクルのパターンを被処理体に投影する投影光学系を有し、前記パターンを前記被処理体に露光する露光装置であって、前記レチクルを照明する光の偏光を第1の偏光状態から前記第1の偏光状態とは異なる第2の偏光状態に変更する変更手段と、前記変更手段が前記光の偏光を前記第1の偏光状態から前記第2の偏光状態に変更した際に、前記投影光学系の収差を調整する調整手段とを有することを特徴とする露光装置を提供する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
レチクルのパターンを被処理体に投影する投影光学系を有し、前記パターンを前記被処理体に露光する露光装置であって、
前記レチクルを照明する光の偏光を第1の偏光状態から前記第1の偏光状態とは異なる第2の偏光状態に変更する変更手段と、
前記変更手段が前記光の偏光を前記第1の偏光状態から前記第2の偏光状態に変更した際に、前記投影光学系の収差を調整する調整手段とを有することを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 516A
, G03F7/20 521
5F046BA03
, 5F046CB23
, 5F046DA13
出願人引用 (2件)
審査官引用 (10件)
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