特許
J-GLOBAL ID：200903074514499399
露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-249711
公開番号（公開出願番号）：特開2004-087987
出願日： 2002年08月28日
公開日（公表日）： 2004年03月18日
要約：
【課題】複屈折による結像性能の低下を抑え、焼き付けパターンの方向によらず優れた解像性能を得ることができる露光装置及び方法を提供する。【解決手段】複屈折を示す光学部材を使用し、マスクに形成されたパターンを被処理体に投影する投影光学系と、前記被処理体を露光する露光光が直線偏光になるように、当該露光光の偏光方向を決定する偏光方向決定手段とを有することを特徴とする露光装置を提供する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
複屈折を示す光学部材を使用し、マスクに形成されたパターンを被処理体に投影する投影光学系と、
前記被処理体を露光する露光光が直線偏光になるように、当該露光光の偏光方向を決定する偏光方向決定手段とを有することを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
5F046BA03
, 5F046CB15
, 5F046CB25
, 5F046DA12
