特許
J-GLOBAL ID：200903014168992129

ウェハハンドリング・システム用のバッファステ-ション

発明者：
エラン・ドゥヴィル

エラン・ドゥヴィル について


出願人/特許権者：
ノバ・メジャリング・インストルメンツ・リミテッド

ノバ・メジャリング・インストルメンツ・リミテッド について


代理人 (1件)： 社本 一夫 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-238447
公開番号（公開出願番号）：特開2000-208592
出願日： 1999年08月25日
公開日（公表日）： 2000年07月28日
要約：
【要約】【課題】 ロボットがウェハを有する状態で計測器から離れ、また、ウェハを非装填した状態にて計測器に到達して測定済みのウェハを戻し得るように最適に設計された、バッファステーションを有する一体型の監視装置に対するハンドリング・システムを提供すること。【解決手段】少なくとも1つの半導体ウェハWを加工する加工装置2は、ウェハWを加工する加工ステーションと、少なくとも1つのウェハWを測定する測定ステーションと、ウェハWを加工ステーションと測定ステーションの間で移動させるロボット8と、ウェハハンドリング・システム20と、バッファステーション22とを備えている。ウェハハンドリング・システムは、測定ステーションと協働して作動し且つウェハWを測定装置における測定位置に対し出し入れするように移動させる。バッファステーション22がウェハハンドリング・システムと関係付けられ且つ測定済みウェハW1及び測定前ウェハWを受け取り、これによりロボット8が少なくとも1つのウェハWを有する状態で測定ステーションに到達し且つ該測定ステーションから離れることを可能にする。
請求項（抜粋）：
ウェハを取り扱うとき、ハンドリング・システムがそれに沿って移動する一般経路を有したウェハハンドリング・システム用のバッファステーションにおいて、それらの間に少なくとも2つのウェハを支持することができ且つ前記ウェハを前記一般経路内に支持し得るように配置された少なくとも一対の支持要素と、第一のモードにおいて、前記支持要素が前記一般経路内にてその上に載せた前記ウェハの任意のものを支持し、第二のモードにおいて、前記支持要素が、前記ハンドリング・システムがウェハを保持するとき、前記ハンドリング・システムの動作を妨害しないように十分に離間するように前記支持要素に対し相対運動を提供する動作手段とを備える、バッファステーション。
IPC (2件)：
H01L 21/68 ,  B25J 15/08
FI (2件)：
H01L 21/68 N ,  B25J 15/08 Z
引用特許：
審査官引用 (13件)
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