特許
J-GLOBAL ID：200903014652982588
基板研磨装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
熊谷 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-400520
公開番号（公開出願番号）：特開2003-197587
出願日： 2001年12月28日
公開日（公表日）： 2003年07月11日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】研磨中の被研磨基板の面の膜状態を精度良く、安定して観測できる膜厚モニター装置を有する基板研磨装置の提供。【解決手段】研磨材12に被研磨基板21を押し付け、相対的運動により被研磨基板21を研磨する研磨装置に、研磨材12に設けられた貫通孔41を通して、照射光用光ファイバ43により研磨面に光を照射し、反射光を受光する光学系と、受光した反射光を分析処理する分析処理手段を設け、被研磨基板21の薄膜の研磨進行状況を監視する基板膜厚モニター装置を有する基板研磨装置であって、貫通孔41に透明液Qを供給する給液孔42を定盤10に設け、該給液孔42はそこから供給される透明液Qが被研磨基板21の被研磨面21aに対して略垂直に進む流れを形成し且つ貫通孔41を満たすように配置形成され、各光ファイバ43、44は照射光及び反射光が該被研磨面21aに対して略垂直に進む流れ部分の透明液Qを通るように配置されている。
請求項（抜粋）：
定盤と、該定盤の表面に固定された研磨材と、該研磨材に被研磨基板を押し付ける基板支持体を具備し、該研磨材と被研磨基板の相対的運動により被研磨基板を研磨する研磨装置に、前記研磨材に設けられた貫通孔を通して、光ファイバにより前記被研磨基板の被研磨面に光を照射し、反射された反射光を光ファイバにより受光する光学系と、該光学系で受光した反射光を分析処理する分析処理手段を設け、該分析処理手段で前記反射光を分析処理し、被研磨基板の被研磨面上に形成された薄膜の研磨進行状況を監視する基板膜厚モニター装置を設けた基板研磨装置であって、前記研磨材に設けられた貫通孔に透明液体を供給する給液孔を前記定盤に設け、該給液孔はそこから供給される透明液が前記被研磨基板の被研磨面に対して略垂直に進む流れを形成し且つ前記貫通孔を満たすように配置形成され、前記光ファイバは照射光及び反射光が該被研磨面に対して略垂直に進む流れ部分の透明液を通るように配置されていることを特徴とする基板研磨装置。
IPC (4件)：
H01L 21/304 622
, B24B 37/04
, B24B 49/12
, G01B 11/06
H01L 21/304 622 S
, B24B 37/04 K
, B24B 49/12
, G01B 11/06 Z
2F065AA30
, 2F065BB03
, 2F065BB22
, 2F065CC31
, 2F065DD04
, 2F065FF41
, 2F065FF46
, 2F065HH02
, 2F065HH13
, 2F065JJ01
, 2F065KK01
, 2F065LL02
, 2F065LL67
, 2F065MM02
, 2F065NN20
, 2F065PP01
, 2F065PP13
, 2F065PP22
, 3C034AA19
, 3C034BB93
, 3C034CA02
, 3C034CB01
, 3C034DD10
, 3C058AA13
, 3C058AC02
, 3C058BA07
, 3C058BB02
, 3C058BC02
, 3C058CB04
, 3C058DA17
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (1件)
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