特許
J-GLOBAL ID：200903014826592474
電気光学装置の製造方法及び電子機器
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
渡邊 隆
, 志賀 正武
, 実広 信哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-287455
公開番号（公開出願番号）：特開2004-127608
出願日： 2002年09月30日
公開日（公表日）： 2004年04月22日
要約：
【課題】特に発光層が多数あるような電気光学装置においても、発光層や電極への酸素や水分の浸入を容易にかつ確実に防止し、これによって発光素子の長寿命化を可能にした電気光学装置と、これを備えた電子機器を提供する。【解決手段】基体200上に第1の電極23、少なくとも一層の機能層60を含む素子層、第2の電極50がこの順に形成されてなる電気光学装置1の製造方法である。基体200上に、第2の電極50の基体200上で露出する部位を覆った状態でガスバリア層30を形成するガスバリア層形成工程を有し、ガスバリア層形成工程が、物理的気相蒸着法によって第2の電極50上に第1のガスバリア層30aを形成する工程と、化学的気相蒸着法によって第1のガスバリア層30a上に第2のガスバリア層30bを形成する工程とを備えている。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
基体上に第1の電極、少なくとも一層の機能層を含む素子層、第2の電極がこの順に形成されてなる電気光学装置の製造方法において、
前記基体上に、前記第2の電極の基体上で露出する部位を覆った状態でガスバリア層を形成するガスバリア層形成工程を有し、
前記ガスバリア層形成工程が、物理的気相蒸着法によって前記第2の電極上に第1のガスバリア層を形成する工程と、化学的気相蒸着法によって前記第1のガスバリア層上に第2のガスバリア層を形成する工程とを備えてなることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
IPC (3件)：
H05B33/10
, H05B33/04
, H05B33/14
H05B33/10
, H05B33/04
, H05B33/14 A
3K007AB11
, 3K007AB12
, 3K007AB13
, 3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007BB02
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 3K007FA02
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (12件)
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