特許
J-GLOBAL ID：200903014925406739
液浸露光プロセス用レジスト保護膜形成用材料、該保護膜形成材料からなるレジスト保護膜、および該レジスト保護膜を用いたレジストパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-356963
公開番号（公開出願番号）：特開2005-099648
出願日： 2003年10月16日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：
【課題】高透明性および高屈折率を有するフッ素系液体に代表される非水性液体を用いた、液浸露光プロセスに用いて好適な液浸露光プロセス用レジスト保護膜形成用材料を提供する。【解決手段】水溶性及びアルカリ可溶性膜形成成分から選ばれる少なくとも1種を含有させ、液浸露光プロセス用レジスト保護膜形成用材料を構成する。前記液浸露光プロセスが、リソグラフィー露光光がレジスト膜に到達するまでの経路の少なくとも前記レジスト膜上に、空気より屈折率が大きい所定厚さの前記非水性液体を介在させた状態で、前記レジスト膜を露光することによってレジストパターンの解像度を向上させる構成であることを特徴とする。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
非水性液体を介してレジスト膜へ選択的に光を照射する液浸露光プロセスに用いて好適なレジスト保護膜を形成するための液浸露光プロセス用レジスト保護膜形成用材料であって、
水溶性およびアルカリ可溶性膜形成成分から選ばれる少なくとも1種を含有することを特徴とする液浸露光プロセス用レジスト保護膜形成用材料。
IPC (3件)：
G03F7/11
, G03F7/20
, H01L21/027
G03F7/11 501
, G03F7/20 521
, H01L21/30 575
2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025DA02
, 2H025DA03
, 2H025FA08
, 5F046AA17
, 5F046DA07
