特許
J-GLOBAL ID：200903098345996201
反射防止膜材料
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-092951
公開番号（公開出願番号）：特開平10-069091
出願日： 1997年03月27日
公開日（公表日）： 1998年03月10日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 成膜性が良く、微細で寸法精度及び合わせ精度が高く、簡便で生産性が高く、再現性良くレジストパターンを形成することができる反射防止膜として、さらに、化学増幅型レジスト表面の酸の失活を引き起こさないため上記PEDの問題が起こらずそれ故化学増幅型レジストの場合には保護膜としても機能するレジスト上層の材料を、フロンを使用することなく提供する。【解決手段】 a)ポリ(N-ビニルピロリドン)単独重合体およびN-ビニルピロリドンと他のビニル系モノマーとの水溶性共重合体からなる群から選択される少なくとも1種の水溶性ポリマーと、b)少なくとも1種のフッ素含有有機酸と、c)少なくとも1種のアミノ酸誘導体を含む水溶液からなる、レジスト層の上層を形成する水溶性膜材料。
請求項（抜粋）：
a)ポリ(N-ビニルピロリドン)単独重合体およびN-ビニルピロリドンと他のビニル系モノマーとの水溶性共重合体からなる群から選択される少なくとも1種の水溶性ポリマーと、b)少なくとも1種のフッ素含有有機酸と、c)少なくとも1種のアミノ酸誘導体を含む水溶液からなることを特徴とする、レジスト層の上層を形成する水溶性膜材料。
IPC (4件)：
G03F 7/11 501
, C09D139/06
, G03F 7/004 506
, H01L 21/027
G03F 7/11 501
, C09D139/06
, G03F 7/004 506
, H01L 21/30 574
