特許
J-GLOBAL ID：200903014971337326
直線開口蒸着装置および被覆方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 興作 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-581267
公開番号（公開出願番号）：特表2003-502494
出願日： 1999年11月12日
公開日（公表日）： 2003年01月21日
要約：
【要約】被覆材料を昇華または蒸発して基材を被覆する直線開口蒸着装置および方法を提供する。該装置および方法は、非常に高い表面厚の均一性を有し、原料物質の微粒子放出による欠損が実質的に無い光学的干渉被膜を持った可撓性フィルムの製造に、特に好適である。該装置は、原料物質を収納した原料ボックス、原料物質を昇華または蒸発させるための加熱素子、および原料物質蒸気を原料ボックスから基材に導くための煙突を含む。複数の穴を有する流れ制限バッフルを原料物質と基材との間に置き、蒸気流を制限しかつ導き、光学的浮動調節版を原料物質の表面上に置き、さらに蒸気流を制限し、よって原料物質のスパッターを実質的に排除する。
請求項（抜粋）：
基材被覆用直線開口蒸着装置で、該装置が、(a)一投入量の原料物質を収容する原料ボックス、(b)該原料ボックス内にあり、原料物質を加熱して原料物質の蒸気を発生できるようにした加熱素子、(c)該原料ボックスと連通した少なくとも一つの入口と蒸気を原料ボックスから基材に向けるための長方形スロット出口とを有する煙突、(d)該原料ボックス内に配置され、原料ボックスからの蒸気の流れを基材に限定するように形成されたバッフル、および(e)該原料ボックスの周りに配置され、基材の加熱を防ぐように形成された格納冷却容器、を含む直線開口蒸着装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (11件)：
2H048GA04
, 2H048GA60
, 4K029BA07
, 4K029BA42
, 4K029BA46
, 4K029BA51
, 4K029BC07
, 4K029CA01
, 4K029DB12
, 4K029DB17
, 4K029GA05
審査官引用 (8件)
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薄膜形成装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平4-256214
出願人：三菱電機株式会社
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昇華性物質真空蒸着装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平6-108045
出願人：三菱重工業株式会社
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特開平4-308076
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