特許
J-GLOBAL ID：200903015665220462
圧電膜形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
後呂 和男
, ▲高▼木 芳之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-206086
公開番号（公開出願番号）：特開2006-032485
出願日： 2004年07月13日
公開日（公表日）： 2006年02月02日
要約：
【課題】 膜の厚さムラを低減できる圧電膜形成方法を提供することにある。【解決手段】 噴射ノズル22を交差方向にずらしながら複数回走査させるとともに、隣り合う堆積層31が一部重なり合うようにして圧電膜30を形成する。また、噴射ノズル22の交差方向への移動距離を堆積層31の膜厚分布に基づいて決定する。さらに、第1の圧電層32を構成する堆積層31が、これと重ねられる第2の圧電層33を構成する堆積層31に対して交差方向ににずれるようにする。これにより、粒子2の付着量が少ない領域同士が重なりあうように堆積層31の重なり率が調整され、圧電膜30全体として厚さを均一化することができる。また、装置を大型化する必要がなく、コストを低減できる。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
噴出孔を設けた噴射ノズルを基板に対して相対移動するように複数回走査しつつ圧電材料の粒子を含むエアロゾルを前記噴出孔から噴出させて前記基板に吹き付けることにより前記粒子を前記基板上に付着させて圧電膜を形成する方法であって、
(A)前記噴射ノズルを所定の走査方向に走査させながら前記エアロゾルを噴出させることで前記基板上に一の堆積層を形成する第1の走査工程と、
(B)前記噴射ノズルを前記走査方向と交差する交差方向に移動させることで直前の走査工程における走査経路から前記噴射ノズルの位置をずらす走査経路変更工程と、
(C)前記噴射ノズルを前記直前の走査工程における走査方向に沿う方向に走査させながら前記エアロゾルを噴出させることで前記直前の走査工程により形成された堆積層に一部重なり合う他の堆積層を形成する第2の走査工程と、
(D)前記工程(B)と前記工程(C)とを所定回数交互に繰り返す工程と、
を含むことを特徴とする圧電膜形成方法。
IPC (4件)：
H01L 41/24
, C23C 24/04
, H01L 41/18
, H01L 41/187
H01L41/22 A
, C23C24/04
, H01L41/18 101A
, H01L41/18 101B
, H01L41/18 101D
4K044AA03
, 4K044AB02
, 4K044BA12
, 4K044BB01
, 4K044BB03
, 4K044BB10
, 4K044BC14
, 4K044CA23
, 4K044CA53
出願人引用 (1件)
審査官引用 (7件)
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