特許
J-GLOBAL ID：200903016023843594

液状物の吐出方法および液状物の吐出装置

発明者：
川瀬 智己

川瀬 智己 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-200413
公開番号（公開出願番号）：特開2004-047579
出願日： 2002年07月09日
公開日（公表日）： 2004年02月12日
要約：
【課題】膜厚分布が小さく、均一な厚さを有する塗膜が得られるとともに、塗布される液状物の無駄を少なくして使用効率を高めた液状物の吐出方法および液状物の吐出装置を提供する。【解決手段】液滴吐出ヘッドのノズルから液状物を吐出して、スピンコータにより回転させる基板、あるいは既に回転している基板に対して対して塗布する液状物の吐出方法において、基板の回転中心から所定距離に位置する円周に沿って内側領域と外側領域の少なくとも二つに分割し、当該内側領域に対する液状物の吐出量を前記外側領域に対する液状物の吐出量よりも多くする。【選択図】 図7
請求項（抜粋）：
液滴吐出ヘッドのノズルから液状物を吐出させ、スピンコータによって回転させる基板、あるいは既に回転している基板に対して塗布する液状物の吐出方法において、 前記基板の回転中心から所定距離に位置する円周に沿って内側領域と外側領域の少なくとも二つに分割し、当該外側領域に対する液状物の吐出量を前記内側領域に対する液状物の吐出量よりも多くすることを特徴とする液状物の吐出方法。
IPC (8件)：
H01L21/027 ,  B05C5/00 ,  B05C11/08 ,  B05C11/10 ,  B05D1/26 ,  B05D1/40 ,  G02F1/13 ,  G03F7/16
FI (8件)：
H01L21/30 564D ,  B05C5/00 101 ,  B05C11/08 ,  B05C11/10 ,  B05D1/26 Z ,  B05D1/40 A ,  G02F1/13 101 ,  G03F7/16 502
Fターム (46件)：
2H025AB13 ,  2H025AB16 ,  2H025EA05 ,  2H088FA18 ,  2H088FA29 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088HA03 ,  2H088HA08 ,  2H088HA12 ,  2H088KA30 ,  2H088MA16 ,  2H088MA20 ,  4D075AC06 ,  4D075AC64 ,  4D075AC79 ,  4D075AC92 ,  4D075AC93 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DC21 ,  4D075DC22 ,  4D075DC24 ,  4D075EA33 ,  4F041AA05 ,  4F041AA06 ,  4F041AB02 ,  4F041BA21 ,  4F041BA56 ,  4F042AA02 ,  4F042AA06 ,  4F042AA07 ,  4F042AA10 ,  4F042BA03 ,  4F042BA08 ,  4F042BA10 ,  4F042BA11 ,  4F042EB09 ,  4F042EB12 ,  4F042EB13 ,  4F042EB17 ,  4F042EB18 ,  4F042EB29 ,  5F046JA02 ,  5F046JA13 ,  5F046JA16
引用特許：
審査官引用 (8件)
  • 回転基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-329116   出願人：株式会社日立製作所
  • 塗布処理方法および塗布処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-074508   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • 枚葉式基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-335315   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
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