特許
J-GLOBAL ID：200903016126653696

ポジ型紫外感光性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法

発明者：
今井 玄児

今井 玄児 について

, 
長谷川 剛也

長谷川 剛也 について


出願人/特許権者：
関西ペイント株式会社

関西ペイント株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-190434
公開番号（公開出願番号）：特開2001-022067
出願日： 1999年07月05日
公開日（公表日）： 2001年01月26日
要約：
【要約】【課題】 レジスト材料に有用なポジ型紫外感光性樹脂組成物を提供することである。【解決手段】 p-ヒドロキシ-α-メチルスチレン化合物及び必要に応じて該化合物と共重合可能なその他の不飽和モノマーとの(共)重合体、カルボキシル基含有樹脂、エーテル結合含有オレフィン性不飽和化合物及び光酸発生剤を含有してなるポジ型紫外感光性樹脂組成物。
請求項（抜粋）：
p-ヒドロキシ-α-メチルスチレン化合物及び必要に応じて該化合物と共重合可能なその他の不飽和モノマーとの(共)重合体、カルボキシル基含有樹脂、エーテル結合含有オレフィン性不飽和化合物及び光酸発生剤を含有してなるポジ型紫外感光性樹脂組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 512
FI (3件)：
G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 Z ,  G03F 7/004 512
Fターム (19件)：
2H025AA02 ,  2H025AB03 ,  2H025AB11 ,  2H025AB13 ,  2H025AB15 ,  2H025AB17 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025CB13 ,  2H025CB17 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CC17 ,  2H025EA04 ,  2H025EA08 ,  2H025FA15
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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