特許
J-GLOBAL ID：200903032523426227

可視光感光性組成物及びパターンの製造方法

発明者：
今井 玄児

今井 玄児 について

, 
木暮 英雄

木暮 英雄 について


出願人/特許権者：
関西ペイント株式会社

関西ペイント株式会社 について


代理人 (1件)： 小田島 平吉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-263911
公開番号（公開出願番号）：特開平11-153858
出願日： 1998年09月03日
公開日（公表日）： 1999年06月08日
要約：
【要約】【課題】 高解像度で、微細画像パターン形成能に優れたポジ型フォトレジスト、印刷材料等に有用な熱安定性に優れた可視光感光性組成物及びこれを用いたパターンの形成方法を提供すること。【解決手段】 (A)カルボキシル基を含有する重合体もしくはカルボキシル基及びヒドロキシフェニル基を含有する重合体、又は(A′)カルボキシル基を含有する重合体と(A′′)ヒドロキシフェニル基を含有する重合体;(B)1分子中に少なくとも2個以上のビニルエーテル基を含有する化合物;(C)可視光線照射により酸を発生する化合物;及び(D)増感色素を含む熱安定性に優れた可視光感光性組成物、及びそれを用いたパターンの形成方法。
請求項（抜粋）：
(A)カルボキシル基を含有し且つ場合により、さらにヒドロキシフエニル基を含有していてもよい重合体;(B)1分子中に少なくとも2個以上のビニルエーテル基を含有する化合物;(C)可視光線照射により酸を発生する一般式【化1】式中、Rは【化2】基(ここでR1、R2及びR3はそれぞれ独立に水素原子もしくはフッ素原子を表わす)、【化3】を表わす、で示される化合物;及び(D)増感色素を含むことを特徴とする可視光感光性組成物。
IPC (10件)：
G03F 7/004 503 ,  C08K 5/06 ,  C08K 5/41 ,  C08K 5/47 ,  C08L101/02 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/38 511 ,  H01L 21/027 ,  C09D 5/32
FI (11件)：
G03F 7/004 503 A ,  C08K 5/06 ,  C08K 5/41 ,  C08K 5/47 ,  C08L101/02 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/38 511 ,  C09D 5/32 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 569 F
引用特許：
審査官引用 (14件)
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