特許
J-GLOBAL ID：200903016281782230
レーザーアブレーション装置及びレーザーアブレーション方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
長谷川 芳樹
, 寺崎 史朗
, 阿部 豊隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-341847
公開番号（公開出願番号）：特開2005-106688
出願日： 2003年09月30日
公開日（公表日）： 2005年04月21日
要約：
【課題】 大気由来のバックグラウンド強度を短時間で低下させ且つ安定させることができるレーザーアブレーション装置、レーザーアブレーション方法、試料分析装置、試料分析方法、及び、電子部品の製造方法を提供すること。【解決手段】 本発明のレーザーアブレーション装置10には、試料15が内部に配される試料セル11と、試料15にレーザ光Lを照射してレーザーアブレートする投光器12と、試料セル11にキャリアガスを供給するための導入路(P1,P2)と、試料セルに接続された導出部19とが設けられている。導出部19は、レーザーアブレートされた試料を試料セル11から導出する第1の導出路(P3,P6,P5)と、試料セル11内の気体を系外に排出する排出器18を有する第2の導出路(P3,P8)とを有している。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
試料が内部に配される試料セルと、
前記試料セルに配された前記試料にレーザ光を照射し、前記試料をレーザーアブレートする投光器と、
前記試料セルにキャリアガスを供給するための導入路と、
前記試料セルに接続された導出部と、を備え、
前記導出部は、
前記レーザーアブレートされた前記試料を前記試料セルから導出する第1の導出路と、
前記試料セル内の気体を系外に排出する排出器を有する第2の導出路と
を備えることを特徴とするレーザーアブレーション装置。
IPC (4件)：
G01N1/22
, G01N1/28
, G01N21/31
, G01N21/73
G01N1/22 Y
, G01N21/31 610A
, G01N21/73
, G01N1/28 T
2G042EA05
, 2G043AA01
, 2G043CA05
, 2G043CA06
, 2G043DA01
, 2G043DA05
, 2G043DA08
, 2G043EA08
, 2G043EA13
, 2G043EA17
, 2G043GA07
, 2G043GB01
, 2G043GB18
, 2G043GB21
, 2G043HA01
, 2G043HA02
, 2G043HA09
, 2G043KA02
, 2G043KA05
, 2G043KA09
, 2G043LA03
, 2G043MA01
, 2G052AA14
, 2G052AD32
, 2G052AD35
, 2G052AD42
, 2G052CA04
, 2G052CA14
, 2G052EB01
, 2G052FD07
, 2G052GA13
, 2G052GA15
, 2G052GA24
, 2G052JA09
, 2G052JA11
, 2G059AA01
, 2G059BB08
, 2G059BB09
, 2G059DD01
, 2G059DD12
, 2G059DD15
, 2G059EE01
, 2G059EE06
, 2G059GG01
, 2G059HH02
, 2G059HH06
, 2G059JJ11
, 2G059JJ13
, 2G059JJ22
, 2G059KK04
, 2G059NN01
出願人引用 (2件)
審査官引用 (8件)
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