特許
J-GLOBAL ID：200903016425444130

化学増幅型ポジ型レジスト組成物

発明者：
中西 潤次

中西 潤次 について

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難波 克彦

難波 克彦 について

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末次 益実

末次 益実 について


出願人/特許権者：
住友化学工業株式会社

住友化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-058620
公開番号（公開出願番号）：特開2002-333716
出願日： 2002年03月05日
公開日（公表日）： 2002年11月22日
要約：
【要約】【課題】塗布性や感度などのレジスト性能を損なうことなく、高い解像度を示すポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)ヒドロキシスチレンから導かれる重合単位と、(メタ)アクリル酸2-メチル-2-アダマンチル又は(メタ)アクリル酸2-エチル-2-アダマンチルから導かれる重合単位とを有する樹脂のような、酸の作用でアルカリ可溶となる樹脂、(B)オニウム塩化合物のような酸発生剤、(C)アミン類のような塩基性化合物及び(D)アジピン酸エステル類のような多価カルボン酸エステル類を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(A)酸の作用でアルカリ可溶となる樹脂、(B)酸発生剤、(C)塩基性化合物及び(D)多価カルボン酸エステル類を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (19件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE08 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17
引用特許：
審査官引用 (14件)
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