特許
J-GLOBAL ID：200903017555294463

洗浄装置

発明者：
森田 博志

森田 博志 について

, 
床嶋 裕人

床嶋 裕人 について

, 
井田 純一

井田 純一 について


出願人/特許権者：
栗田工業株式会社

栗田工業株式会社 について


代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-305577
公開番号（公開出願番号）：特開2008-124203
出願日： 2006年11月10日
公開日（公表日）： 2008年05月29日
要約：
【課題】ガス溶解水を用いて基板等を洗浄する場合の洗浄効率を向上させることができる洗浄装置を提供する。【解決手段】ガスをガス溶解装置1で水中に溶解させ、ガス溶解水を殻体たる洗浄槽4に導入し、被洗浄物としての基板Sを洗浄する。ガス溶解装置1からのガス溶解水が配管2及び水圧調整弁3を介して洗浄槽4に導入される。水圧調整弁3で減圧されることにより、洗浄槽4内に導入されるガス溶解水中に微細気泡が多量に生じる。この微細気泡含有水によって基板が効率よく洗浄される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ガスを加圧溶解させた加圧水によって被洗浄物を洗浄する洗浄装置において、 該加圧水を製造するガス溶解装置と、 該ガス溶解装置からの加圧水を導く配管と、 該配管から加圧水が導入部を介して導入される室を有し、該室に被洗浄物を収容するか又は該室内を被洗浄物に露呈させる開口が設けられている殻体と、 該殻体の加圧水導入部又はその直近の前記配管に設けられた水圧調整弁と を備えてなる洗浄装置。
IPC (4件)：
H01L 21/304 ,  B08B 3/08 ,  B08B 3/12 ,  B08B 3/02
FI (6件)：
H01L21/304 647Z ,  H01L21/304 643C ,  H01L21/304 642E ,  B08B3/08 Z ,  B08B3/12 A ,  B08B3/02 A
Fターム (16件)：
3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB03 ,  3B201AB33 ,  3B201AB42 ,  3B201BB02 ,  3B201BB03 ,  3B201BB22 ,  3B201BB32 ,  3B201BB38 ,  3B201BB45 ,  3B201BB72 ,  3B201BB82 ,  3B201BB85 ,  3B201BB92 ,  3B201BB98
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (8件)
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