フォトマスクブランクの製造方法及びフォトマスクの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：阿仁屋節雄 , 油井透 , 清野仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-031789
公開番号（公開出願番号）：特開2005-221929
出願日： 2004年02月09日
公開日（公表日）： 2005年08月18日
要約：

【課題】透光性基板の表面(主表面と、側面及び面取り面からなる端面)に付着した異物等を容易且つ確実に除去して、欠陥が極めて少ない高品質なフォトマスクブランクを製造できること。【解決手段】透明基板1の表面を洗浄した後、透明基板の表面に、被転写体に転写するための転写パターンとなる薄膜を形成するフォトマスクブランクの製造方法において、上記透明基板の表面の洗浄は、当該透明基板の表面の濡れ性を改善する表面改質処理を、例えば紫外線照射装置を用いて実施し、次に、透明基板の表面のうちの端面を、端面洗浄装置を用いて洗浄し、その後、透明基板の表面のうちの主表面を、洗浄ツールによるスクラブ洗浄、2流体噴射ノズル13による2流体噴射洗浄、超音波洗浄ノズル14による超音波洗浄等の少なくとも一つを実施するものである。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

透光性基板の表面を洗浄した後、上記透光性基板の表面に、被転写体に転写するための転写パターンとなる薄膜を形成するフォトマスクブランクの製造方法において、上記透光性基板の表面の洗浄は、当該透光性基板の表面の濡れ性を改善する表面改質処理を実施し、次に、当該透光性基板の表面のうちの端面を洗浄し、その後、当該透光性基板の表面のうちの主表面を洗浄するものであることを特徴とするフォトマスクブランクの製造方法。

IPC (5件)：

G03F1/08 , B08B1/04 , B08B3/02 , B08B3/04 , B08B7/04

FI (6件)：

G03F1/08 X , B08B1/04 , B08B3/02 B , B08B3/04 Z , B08B7/04 A , B08B7/04 Z

Fターム (28件)：

2H095BB20 , 2H095BB21 , 2H095BB22 , 3B116AA01 , 3B116AB33 , 3B116AB42 , 3B116BA02 , 3B116BA12 , 3B116BB22 , 3B116BB38 , 3B116BB83 , 3B116BC01 , 3B116CC01 , 3B116CC03 , 3B201AA01 , 3B201AB33 , 3B201AB42 , 3B201BA02 , 3B201BA12 , 3B201BB22 , 3B201BB38 , 3B201BB83 , 3B201BB92 , 3B201BB95 , 3B201BB98 , 3B201BC01 , 3B201CC01 , 3B201CC11

引用特許：

出願人引用 (18件)

特公平3-29474号公報
特開昭63-249146
特開昭63-271938

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審査官引用 (17件)

特公平3-029474
特開昭63-271938
シリカガラス基板及びその選別方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-397364 出願人：信越化学工業株式会社

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引用文献：

出願人引用 (1件)

洗浄・ウェット処理技術

審査官引用 (1件)

洗浄・ウェット処理技術

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