特許
J-GLOBAL ID：200903017698697798

光触媒膜を有する金属基材とその製造方法及び金属基材表面の親水化方法

発明者：
坂井 智嗣

坂井 智嗣 について

, 
利根川 裕

利根川 裕 について


出願人/特許権者：
三菱重工業株式会社

三菱重工業株式会社 について


代理人 (1件)： 奥山 尚一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-364045
公開番号（公開出願番号）：特開2002-080980
出願日： 2000年11月30日
公開日（公表日）： 2002年03月22日
要約：
【要約】【課題】 基材が金属である場合に、剥離等の機械的強度を損なうことなく、熱処理時に基材からの成分の拡散による光触媒的な機能が劣化することなく、光触媒的に表面を親水性にする方法を提供する。【解決手段】 金属基材の圧延・切り出し工程(1)と、得られた金属基材の酸洗処理工程(2)と、その後の金属基材上への光触媒物質の成膜工程(3)と、成膜後のアニーリング工程(4)とを含む、光触媒膜を有する金属基材の製造方法を提供する。また、金属基材の圧延・切り出し工程と、得られた金属基材の酸洗処理工程と、その後の金属基材表面へのTiO2の成膜工程、成膜後のアニーリング工程、光照射工程を含む、金属基材表面の親水化方法を提供する。
請求項（抜粋）：
金属基材の圧延・切り出し工程と、得られた金属基材の酸洗処理工程と、その後の金属基材上への光触媒物質の成膜工程と、成膜後のアニーリング工程とを含む、光触媒膜を有する金属基材の製造方法。
IPC (8件)：
C23C 28/04 ,  B01J 21/08 ,  B01J 35/02 ,  B01J 37/02 301 ,  C23C 8/12 ,  C23C 14/08 ,  C23C 26/00 ,  C23F 1/26
FI (9件)：
C23C 28/04 ,  B01J 21/08 M ,  B01J 35/02 J ,  B01J 37/02 301 P ,  C23C 8/12 ,  C23C 14/08 N ,  C23C 14/08 E ,  C23C 26/00 C ,  C23F 1/26
Fターム (71件)：
4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA01A ,  4G069BA02A ,  4G069BA02B ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA05A ,  4G069BA17 ,  4G069BA18 ,  4G069BA48A ,  4G069BB04A ,  4G069BB06A ,  4G069BC12A ,  4G069BC22A ,  4G069BC25A ,  4G069BC35A ,  4G069BC43A ,  4G069BC50A ,  4G069BC60A ,  4G069BC66A ,  4G069EA07 ,  4G069EB15Y ,  4G069EC22X ,  4G069EC22Y ,  4G069EC28 ,  4G069ED02 ,  4G069ED03 ,  4G069FA04 ,  4G069FB01 ,  4G069FB02 ,  4G069FB09 ,  4G069FB15 ,  4G069FB17 ,  4G069FB30 ,  4G069FB39 ,  4G069FB78 ,  4K029AA02 ,  4K029BA43 ,  4K029BA44 ,  4K029BA46 ,  4K029BA48 ,  4K029BB02 ,  4K029BC00 ,  4K029BD00 ,  4K029CA05 ,  4K029DC39 ,  4K029FA04 ,  4K029GA01 ,  4K044AA03 ,  4K044AA06 ,  4K044BA12 ,  4K044BA13 ,  4K044BA14 ,  4K044BB01 ,  4K044BB03 ,  4K044BB04 ,  4K044CA02 ,  4K044CA04 ,  4K044CA12 ,  4K044CA13 ,  4K044CA14 ,  4K044CA15 ,  4K044CA53 ,  4K057WA01 ,  4K057WB08 ,  4K057WB11 ,  4K057WE02 ,  4K057WE07 ,  4K057WE08 ,  4K057WJ10
引用特許：
出願人引用 (4件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM